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新型g-C3N4光催化材料的制备与性能研究

摘要第4-6页
abstract第6-7页
第1章 绪论第13-25页
    1.1 前言第13页
    1.2 光催化技术的研究第13-16页
        1.2.1 光催化技术的概念第14页
        1.2.2 光催化技术的原理第14-15页
        1.2.3 光催化研究的发展历史第15-16页
        1.2.4 光催化技术的应用第16页
    1.3 半导体光催化材料的研究现状第16-17页
    1.4 g-C_3N_4的研究现状第17-21页
        1.4.1 g-C_3N_4的发展历史第17页
        1.4.2 g-C_3N_4的结构第17-19页
        1.4.3 g-C_3N_4的性质第19-20页
        1.4.4 g-C_3N_4的应用第20-21页
    1.5 g-C_3N_4的光催化活性的改善方法第21-22页
        1.5.1 掺杂改性第21-22页
        1.5.2 物理复合改性第22页
        1.5.3 微观结构调整第22页
    1.6 本论文的研究目的及内容第22-25页
        1.6.1 本文研究目的第22-23页
        1.6.2 研究内容第23-25页
第2章 实验试剂、仪器及表征方法第25-30页
    2.1 化学试剂第25页
    2.2 实验仪器第25-26页
    2.3 表征分析方法第26-28页
        2.3.1 X射线衍射(XRD)第26页
        2.3.2 比表面积和孔径分析(BET和BJH)第26页
        2.3.3 场发射扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)第26-27页
        2.3.4 X射线光电子能谱测试(XPS)第27页
        2.3.5 热重-差热分析测试(TG-DSC)第27页
        2.3.6 紫外-可见吸收光谱(UV-vis)第27页
        2.3.7 傅里叶转换红外光谱(FT-IR)第27-28页
        2.3.8 电子顺磁共振波普分析(EPR)第28页
    2.4 光催化性能评价第28-30页
        2.4.1 光催化测试装置和光源第28页
        2.4.2 实验方法第28-29页
        2.4.3 评价方法第29-30页
第3章 多孔g-C_3N_4光催化剂制备与可见光催化性能研究第30-46页
    3.1 引言第30-31页
    3.2 实验部分第31-32页
        3.2.1 样品制备第31-32页
        3.2.2 样品表征和测试第32页
    3.3 结果与讨论第32-45页
        3.3.1 g-C_3N_4晶体结构分析第32-33页
        3.3.2 g-C_3N_4表面形貌和微观结构表征第33-35页
        3.3.3 g-C_3N_4比表面积与孔径分布分析第35-36页
        3.3.4 g-C_3N_4傅氏转换红外线光谱表征第36-37页
        3.3.5 g-C_3N_4热重表征第37-39页
        3.3.6 g-C_3N_4紫外可见分析第39页
        3.3.7 g-C_3N_4EPR表征第39-40页
        3.3.8 g-C_3N_4XPS分析第40-42页
        3.3.9 g-C_3N_4形成机理分析第42-43页
        3.3.10 光催化性能测试第43-45页
    3.4 本章小结第45-46页
第4章 多孔g-C_3N_4光催化剂的应用第46-54页
    4.1 引言第46页
    4.2 硅酸钠-g-C_3N_4涂层第46-50页
        4.2.1 实验方法第46-47页
        4.2.2 实验现象第47-48页
        4.2.3 光催化测试第48-49页
        4.2.4 光催化剂对于光催化的影响第49-50页
    4.3 磷酸二氢铝-g-C_3N_4涂层第50-53页
        4.3.1 实验方法第50页
        4.3.2 实验条件对涂层光催化活性的影响第50-53页
    4.4 本章总结第53-54页
第5章 总结与展望第54-56页
    5.1 总结第54-55页
    5.2 展望第55-56页
参考文献第56-61页
致谢第61-62页
攻读学位期间发表的学术论文及参加科研的情况第62-63页

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