摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第13-25页 |
1.1 前言 | 第13页 |
1.2 光催化技术的研究 | 第13-16页 |
1.2.1 光催化技术的概念 | 第14页 |
1.2.2 光催化技术的原理 | 第14-15页 |
1.2.3 光催化研究的发展历史 | 第15-16页 |
1.2.4 光催化技术的应用 | 第16页 |
1.3 半导体光催化材料的研究现状 | 第16-17页 |
1.4 g-C_3N_4的研究现状 | 第17-21页 |
1.4.1 g-C_3N_4的发展历史 | 第17页 |
1.4.2 g-C_3N_4的结构 | 第17-19页 |
1.4.3 g-C_3N_4的性质 | 第19-20页 |
1.4.4 g-C_3N_4的应用 | 第20-21页 |
1.5 g-C_3N_4的光催化活性的改善方法 | 第21-22页 |
1.5.1 掺杂改性 | 第21-22页 |
1.5.2 物理复合改性 | 第22页 |
1.5.3 微观结构调整 | 第22页 |
1.6 本论文的研究目的及内容 | 第22-25页 |
1.6.1 本文研究目的 | 第22-23页 |
1.6.2 研究内容 | 第23-25页 |
第2章 实验试剂、仪器及表征方法 | 第25-30页 |
2.1 化学试剂 | 第25页 |
2.2 实验仪器 | 第25-26页 |
2.3 表征分析方法 | 第26-28页 |
2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第26页 |
2.3.2 比表面积和孔径分析(BET和BJH) | 第26页 |
2.3.3 场发射扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM) | 第26-27页 |
2.3.4 X射线光电子能谱测试(XPS) | 第27页 |
2.3.5 热重-差热分析测试(TG-DSC) | 第27页 |
2.3.6 紫外-可见吸收光谱(UV-vis) | 第27页 |
2.3.7 傅里叶转换红外光谱(FT-IR) | 第27-28页 |
2.3.8 电子顺磁共振波普分析(EPR) | 第28页 |
2.4 光催化性能评价 | 第28-30页 |
2.4.1 光催化测试装置和光源 | 第28页 |
2.4.2 实验方法 | 第28-29页 |
2.4.3 评价方法 | 第29-30页 |
第3章 多孔g-C_3N_4光催化剂制备与可见光催化性能研究 | 第30-46页 |
3.1 引言 | 第30-31页 |
3.2 实验部分 | 第31-32页 |
3.2.1 样品制备 | 第31-32页 |
3.2.2 样品表征和测试 | 第32页 |
3.3 结果与讨论 | 第32-45页 |
3.3.1 g-C_3N_4晶体结构分析 | 第32-33页 |
3.3.2 g-C_3N_4表面形貌和微观结构表征 | 第33-35页 |
3.3.3 g-C_3N_4比表面积与孔径分布分析 | 第35-36页 |
3.3.4 g-C_3N_4傅氏转换红外线光谱表征 | 第36-37页 |
3.3.5 g-C_3N_4热重表征 | 第37-39页 |
3.3.6 g-C_3N_4紫外可见分析 | 第39页 |
3.3.7 g-C_3N_4EPR表征 | 第39-40页 |
3.3.8 g-C_3N_4XPS分析 | 第40-42页 |
3.3.9 g-C_3N_4形成机理分析 | 第42-43页 |
3.3.10 光催化性能测试 | 第43-45页 |
3.4 本章小结 | 第45-46页 |
第4章 多孔g-C_3N_4光催化剂的应用 | 第46-54页 |
4.1 引言 | 第46页 |
4.2 硅酸钠-g-C_3N_4涂层 | 第46-50页 |
4.2.1 实验方法 | 第46-47页 |
4.2.2 实验现象 | 第47-48页 |
4.2.3 光催化测试 | 第48-49页 |
4.2.4 光催化剂对于光催化的影响 | 第49-50页 |
4.3 磷酸二氢铝-g-C_3N_4涂层 | 第50-53页 |
4.3.1 实验方法 | 第50页 |
4.3.2 实验条件对涂层光催化活性的影响 | 第50-53页 |
4.4 本章总结 | 第53-54页 |
第5章 总结与展望 | 第54-56页 |
5.1 总结 | 第54-55页 |
5.2 展望 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
攻读学位期间发表的学术论文及参加科研的情况 | 第62-63页 |