瞬变电磁合成孔径成像方法分辨率的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 瞬变电磁解释技术的发展现状 | 第10-11页 |
| 1.3 合成孔径成像技术概述 | 第11-12页 |
| 1.4 论文结构及内容 | 第12-14页 |
| 第二章 瞬变电磁合成孔径成像基本原理 | 第14-19页 |
| 2.1 雷达中的合成孔径技术 | 第14-16页 |
| 2.2 瞬变电磁合成孔径基本原理 | 第16-19页 |
| 2.2.1 微分电导成像基本原理 | 第16-17页 |
| 2.2.2 航空瞬变电磁合成孔径成像技术 | 第17-19页 |
| 第三章 瞬变电磁合成孔径长度的选取 | 第19-41页 |
| 3.1 电阻率 1:50的处理结果 | 第20-29页 |
| 3.1.1 异常体埋深 40m | 第20-22页 |
| 3.1.2 异常体埋深 60m | 第22-24页 |
| 3.1.3 异常体埋深 80m | 第24-26页 |
| 3.1.4 异常体埋深 100m | 第26-29页 |
| 3.2 电阻率 1:20的处理结果 | 第29-35页 |
| 3.2.1 异常体埋深 40m | 第29-31页 |
| 3.2.2 异常体埋深 60m | 第31-33页 |
| 3.2.3 异常体埋深 80m | 第33-35页 |
| 3.3 电阻率 1:10的处理结果 | 第35-40页 |
| 3.3.1 异常体埋深 40m | 第35-38页 |
| 3.3.2 异常体埋深 60m | 第38-40页 |
| 3.4 最佳合成孔径长度 | 第40-41页 |
| 第四章 瞬变电磁合成孔径成像的分辨率 | 第41-59页 |
| 4.1 合成孔径成像技术水平分辨率研究 | 第41-48页 |
| 4.1.1 水平间隔 160m合成孔径成像效果 | 第42-44页 |
| 4.1.2 水平间隔 120m合成孔径成像效果 | 第44-45页 |
| 4.1.3 水平间隔 80m合成孔径成像效果 | 第45-47页 |
| 4.1.4 水平间隔 40m合成孔径成像效果 | 第47-48页 |
| 4.2 合成孔径成像技术垂直分辨率研究 | 第48-57页 |
| 4.2.1 垂直间距 120m合成孔径成像效果 | 第50-52页 |
| 4.2.2 垂直间距 90m合成孔径成像效果 | 第52-54页 |
| 4.2.3 垂直间距 60m合成孔径成像效果 | 第54-56页 |
| 4.2.4 垂直间距 30m合成孔径成像效果 | 第56-57页 |
| 4.3 本章小结 | 第57-59页 |
| 结论与展望 | 第59-61页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 工作中存在的问题及展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
