| 中文摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 1.绪论 | 第8-21页 |
| 1.1 硅钢的历史及现状 | 第8-10页 |
| 1.1.1 硅钢的历史 | 第8-9页 |
| 1.1.2 硅钢的生产工艺 | 第9-10页 |
| 1.2 对硅钢性能的要求 | 第10-12页 |
| 1.2.1 铁芯损耗（PT）低 | 第10-11页 |
| 1.2.2 磁感应强度（B）高 | 第11页 |
| 1.2.3 对磁各向异性的要求 | 第11页 |
| 1.2.4 冲片性能良好 | 第11-12页 |
| 1.2.5 硅钢表面光滑、平整和厚度均匀 | 第12页 |
| 1.2.6 绝缘涂层性能好 | 第12页 |
| 1.2.7 磁时效现象小 | 第12页 |
| 1.3 取向硅钢的磁畴细化 | 第12-14页 |
| 1.3.1 磁畴的形成 | 第13页 |
| 1.3.2 取向硅钢的激光刻痕 | 第13-14页 |
| 1.4 硅钢电磁性能简介 | 第14-19页 |
| 1.4.1 爱泼斯坦方圈试验法 | 第14-16页 |
| 1.4.2 500 ㎜×500 ㎜磁导计试验法 | 第16-18页 |
| 1.4.3 爱泼斯坦方圈法和单片法之间的联系 | 第18-19页 |
| 1.5 研究内容、方法及意义 | 第19-21页 |
| 1.5.2 实验内容 | 第19页 |
| 1.5.3 研究意义 | 第19-21页 |
| 2 剪切应力对硅钢电磁性能的影响 | 第21-34页 |
| 2.1 引言 | 第21页 |
| 2.2 实验方案 | 第21页 |
| 2.3 实验结果与分析 | 第21-32页 |
| 2.3.1 退火前后电磁性能比对 | 第21-30页 |
| 2.3.2 实验结果分析 | 第30-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-34页 |
| 3 磁畴细化对硅钢电磁性能的影响 | 第34-41页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 实验方案 | 第34页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第34-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 4 磁导计与爱泼斯坦方圈电磁检测方法的研究 | 第41-56页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 实验方案 | 第41-42页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第42-55页 |
| 4.3.1 爱泼斯坦方圈系统和单片磁导计系统的评价分析 | 第42-52页 |
| 4.3.2 爱泼斯坦方圈系统和单片磁导计系统检测结果的校正统一 | 第52-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 5 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 作者简介 | 第60页 |