| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 二硫化钼的结构与性质 | 第10-12页 |
| 1.3 二硫化钼纳米片的制备方法 | 第12-17页 |
| 1.3.1 微机械剥离法 | 第12页 |
| 1.3.2 液相超声剥离法 | 第12-13页 |
| 1.3.3 离子插层法 | 第13-15页 |
| 1.3.4 化学气相沉积法 | 第15页 |
| 1.3.5 水热合成法 | 第15-16页 |
| 1.3.6 电化学剥离法 | 第16页 |
| 1.3.7 其他制备方法 | 第16-17页 |
| 1.4 二硫化钼纳米片的应用 | 第17-18页 |
| 1.4.1 电子器件 | 第17页 |
| 1.4.2 催化剂 | 第17页 |
| 1.4.3 电池 | 第17-18页 |
| 1.4.4 传感器 | 第18页 |
| 1.5 论文的选题意义与研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 插层化合物辅助的有机溶剂中二硫化钼纳米片的制备 | 第20-38页 |
| 2.1 概述 | 第20页 |
| 2.2 实验部分 | 第20-22页 |
| 2.2.1 实验试剂及实验仪器 | 第20-21页 |
| 2.2.2 实验方法 | 第21页 |
| 2.2.3 仪器表征的制样方法 | 第21-22页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第22-35页 |
| 2.3.1 插层化合物的量对二硫化钼剥离产率的影响 | 第22-24页 |
| 2.3.2 MoS2初始用量对二硫化钼剥离产率的影响 | 第24-26页 |
| 2.3.3 超声功率对二硫化钼剥离产率的影响 | 第26页 |
| 2.3.4 超声时间对二硫化钼剥离产率的影响 | 第26-29页 |
| 2.3.5 最优条件下制备出的二硫化钼纳米片的表征 | 第29-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-38页 |
| 第三章 混合溶剂中少层二硫化钼纳米片的制备 | 第38-48页 |
| 3.1 概述 | 第38页 |
| 3.2 实验部分 | 第38-39页 |
| 3.2.1 实验试剂及实验仪器 | 第38页 |
| 3.2.2 实验方法 | 第38-39页 |
| 3.2.3 仪器表征和制样方法 | 第39页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第39-47页 |
| 3.3.1 混合溶剂体积比对二硫化钼纳米片分散浓度的影响 | 第39-41页 |
| 3.3.2 二硫化钼初始量对二硫化钼纳米片分散浓度的影响 | 第41页 |
| 3.3.3 超声功率对二硫化钼纳米片分散浓度的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.4 超声时间对二硫化钼纳米片分散浓度的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.5 最佳制备条件制备二硫化钼纳米片的结构表征 | 第43-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 插层化合物辅助混合溶剂中制备少层二硫化钼纳米片 | 第48-54页 |
| 4.1 概述 | 第48页 |
| 4.2 实验部分 | 第48-49页 |
| 4.2.1 实验试剂及实验仪器 | 第48-49页 |
| 4.2.2 实验方法 | 第49页 |
| 4.2.3 仪器表征与制样方法 | 第49页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第49-51页 |
| 4.3.1 二硫化钼纳米片制备条件的优化 | 第49-50页 |
| 4.3.2 最佳条件制备二硫化钼纳米片的表征 | 第50-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-54页 |
| 第五章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-64页 |
| 附录 | 第64-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文目录 | 第70-72页 |
