| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 钛合金材料简介与应用 | 第8页 |
| 1.2 微弧氧化技术 | 第8-12页 |
| 1.2.1 微弧氧化技术的特点 | 第8-9页 |
| 1.2.2 微弧氧化技术的应用 | 第9-10页 |
| 1.2.3 微弧氧化成膜机理 | 第10-11页 |
| 1.2.4 微弧氧化技术存在的主要问题 | 第11-12页 |
| 1.3 颗粒增强钛合金复合膜的研究进展 | 第12-13页 |
| 1.3.1 常用的增强相 | 第12-13页 |
| 1.3.2 第二相颗粒对钛合金微弧氧化膜的影响 | 第13页 |
| 1.4 本课题的研究意义 | 第13-14页 |
| 1.5 本课题的研究内容 | 第14-15页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第15-21页 |
| 2.1 实验材料 | 第15-16页 |
| 2.1.1 阳极材料 | 第15页 |
| 2.1.2 实验试剂 | 第15页 |
| 2.1.3 实验装置 | 第15-16页 |
| 2.2 工艺流程 | 第16-19页 |
| 2.2.1 复合颗粒的选择 | 第16-17页 |
| 2.2.2 电解液的配制 | 第17-18页 |
| 2.2.3 工艺流程 | 第18-19页 |
| 2.3 测试方法 | 第19-21页 |
| 2.3.1 微弧氧化膜相组成和结构分析 | 第19页 |
| 2.3.2 微弧氧化陶瓷膜厚度测试 | 第19-20页 |
| 2.3.3 微弧氧化陶瓷膜粗糙度测试 | 第20页 |
| 2.3.4 微弧氧化膜层摩擦磨损性能测试 | 第20页 |
| 2.3.5 Zeta电位测试仪 | 第20-21页 |
| 第3章 BN、ZrO_2—微弧氧化复合膜的组织、结构研究 | 第21-35页 |
| 3.1 槽电压与时间的关系曲线 | 第21-23页 |
| 3.2 氧化时间对陶瓷膜层的影响 | 第23-27页 |
| 3.2.1 氧化时间对膜层形貌的影响 | 第23-25页 |
| 3.2.2 氧化时间对膜层粗糙度及厚度的影响 | 第25-27页 |
| 3.3 电流密度对陶瓷膜层的影响 | 第27-31页 |
| 3.3.1 电流密度对膜层形貌的影响 | 第27-29页 |
| 3.3.2 电流密度对膜层粗糙度及厚度的影响 | 第29-31页 |
| 3.4 电解液中第二相粒子含量对陶瓷膜层表面形貌的影响 | 第31-34页 |
| 本章小结 | 第34-35页 |
| 第4章 BN、ZrO_2—微弧氧化复合膜摩擦磨损性能 | 第35-54页 |
| 4.1 氧化时间对微弧氧化陶瓷膜的相组成的影响 | 第35-37页 |
| 4.2 微弧氧化复合膜成分 | 第37-39页 |
| 4.3 摩擦磨损性能研究 | 第39-45页 |
| 4.3.1 氧化时间对BN复合膜的摩擦磨损性能的影响 | 第39-42页 |
| 4.3.2 氧化时间对ZrO_2复合膜摩擦磨损性能的影响 | 第42-45页 |
| 4.4 微粒复合量对微弧氧化陶瓷膜层的摩擦磨损性能的影响 | 第45-51页 |
| 4.4.1 BN微粒复合量对膜层摩擦磨损性能的影响 | 第46-48页 |
| 4.4.2 ZrO_2微粒复合量对膜层摩擦磨损性能的影响 | 第48-51页 |
| 4.5 微弧氧化复合膜摩擦磨损机理ZrO_2 | 第51-52页 |
| 4.5.1 微弧氧化BN复合膜的摩擦磨损机理 | 第51-52页 |
| 4.5.2 微弧氧化ZrO_2复合膜的摩擦磨损机理 | 第52页 |
| 本章小结 | 第52-54页 |
| 第5章 微弧氧化复合膜生长机理的研究 | 第54-63页 |
| 5.1 微弧氧化膜与微弧氧化BN复合膜截面分析 | 第54-55页 |
| 5.2 微弧氧化ZrO_2膜层截面线扫描 | 第55页 |
| 5.3 微弧氧化等离子体过程 | 第55-57页 |
| 5.4 微弧氧化复合膜成膜机理分析 | 第57-62页 |
| 5.4.1 表明活性剂对颗粒沉积的影响 | 第57-59页 |
| 5.4.2 微弧氧化复合膜放电过程 | 第59-62页 |
| 本章小结 | 第62-63页 |
| 第6章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
