摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第一章 绪论 | 第8-22页 |
1.1 晶硅太阳电池的发展 | 第8-9页 |
1.2 多晶硅太阳电池的主导地位 | 第9-11页 |
1.3 热处理在多晶硅太阳电池中的应用 | 第11-16页 |
1.3.1 热处理对晶硅杂质和缺陷状态的影响 | 第11-13页 |
1.3.2 热处理对晶硅电池钝化的影响 | 第13-16页 |
1.3.3 热处理对银浆印刷烧结电极的影响 | 第16页 |
1.4 深能级瞬态谱(DLTS)技术原理及应用 | 第16-20页 |
1.4.1 DLTS 技术原理 | 第17-19页 |
1.4.2 DLTS 的应用 | 第19-20页 |
1.5 本文内容 | 第20-22页 |
第二章 低温热处理对多晶硅太阳电池性能的影响 | 第22-39页 |
2.1 前言 | 第22页 |
2.2 实验方法 | 第22-26页 |
2.2.1 实验设备 | 第22-25页 |
2.2.2 实验步骤 | 第25-26页 |
2.3 结果与讨论 | 第26-38页 |
2.3.1 氩气中热处理过程对太阳电池性能的影响 | 第26-30页 |
2.3.2 氮氢混合气中热处理过程对太阳电池性能的影响 | 第30-34页 |
2.3.3 空气中热处理过程对太阳电池性能的的影响 | 第34-38页 |
2.4 本章小结 | 第38-39页 |
第三章 低温热处理对多晶硅性能影响的 DLTS 分析 | 第39-49页 |
3.1 前言 | 第39页 |
3.2 实验原理与方法 | 第39-43页 |
3.2.1 实验设备及原理 | 第39-42页 |
3.2.2 实验方法 | 第42-43页 |
3.3 结果与讨论 | 第43-48页 |
3.3.1 样品的 IV、CV 特性 | 第43-44页 |
3.3.2 空气中热处理对多晶硅深能级陷阱的影响 | 第44-45页 |
3.3.3 氮氢混合气中热处理对多晶硅深能级陷阱的影响 | 第45-46页 |
3.3.4 氩气中热处理对多晶硅深能级陷阱的影响 | 第46-48页 |
3.4 本章小结 | 第48-49页 |
第四章 总结 | 第49-51页 |
4.1 主要研究结论 | 第49-50页 |
4.2 本课题创新之处 | 第50页 |
4.3 展望 | 第50-51页 |
致谢 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-55页 |