| 附表 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-32页 |
| 1.1 纳米材料与自组装 | 第12-14页 |
| 1.2 嵌段共聚物自组装 | 第14-19页 |
| 1.2.1 嵌段共聚物 | 第14-15页 |
| 1.2.2 嵌段共聚物在体相中的自组装 | 第15-17页 |
| 1.2.3 嵌段共聚物薄膜的自组装 | 第17-18页 |
| 1.2.4 嵌段共聚物在溶液中的自组装 | 第18-19页 |
| 1.3 嵌段共聚物自组装的形貌和取向的控制 | 第19-28页 |
| 1.3.1 薄膜厚度对嵌段共聚物形貌和取向的影响 | 第19-20页 |
| 1.3.2 表面/界面对嵌段共聚物形貌和取向的影响 | 第20-21页 |
| 1.3.3 电场对嵌段共聚物自组装形貌和取向的影响 | 第21-22页 |
| 1.3.4 溶剂对嵌段共聚物自组装形貌和取向的影响 | 第22-23页 |
| 1.3.5 温度场对嵌段共聚物自组装形貌和取向的影响 | 第23-25页 |
| 1.3.6 溶剂退火对嵌段共聚物自组装形貌和取向的影响 | 第25-28页 |
| 1.4 嵌段共聚物自组装的应用 | 第28-30页 |
| 1.5 本论文研究的内容和意义 | 第30-32页 |
| 第二章 实验原料与仪器 | 第32-44页 |
| 2.1 实验原料与仪器 | 第32-35页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第32-34页 |
| 2.1.2 仪器设备 | 第34-35页 |
| 2.2 PS-b-PLA 薄膜的制备 | 第35-39页 |
| 2.2.1 基底的修饰 | 第35-36页 |
| 2.2.2 旋涂法制备 PS-b-PLA 薄膜 | 第36-37页 |
| 2.2.3 溶液浇铸法制备 PS-b-PLA 薄膜 | 第37-38页 |
| 2.2.4 PS-b-PLA 薄膜的热退火 | 第38页 |
| 2.2.5 PS-b-PLA 薄膜的溶剂退火 | 第38-39页 |
| 2.2.6 PS-b-PLA 薄膜的水解处理 | 第39页 |
| 2.3 嵌段共聚物薄膜的表征方法 | 第39-44页 |
| 2.3.1 原子力显微镜(AFM)表征 | 第39-41页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)表征 | 第41-42页 |
| 2.3.3 差示扫描量热法(DSC)表征 | 第42页 |
| 2.3.4 X 射线小角散射(SAXS)表征 | 第42-44页 |
| 第三章 旋涂法制备 PS-b-PLA 薄膜以及不同因素对形貌和取向的影响 | 第44-58页 |
| 3.1 本章引言 | 第44-45页 |
| 3.2 PS-b-PLA 薄膜的制备 | 第45页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第45-56页 |
| 3.3.1 退火温度对 PS-b-PLA 薄膜形貌和取向的影响 | 第45-48页 |
| 3.3.2 退火时间对 PS-b-PLA 薄膜形貌和取向的影响 | 第48-51页 |
| 3.3.3 不同退火温度之间微结构的可逆转换 | 第51-52页 |
| 3.3.4 化学法除去 PS-b-PLA 薄膜中的 PLA 相 | 第52-54页 |
| 3.3.5 基底对 PS-b-PLA 薄膜形貌和取向的影响 | 第54-55页 |
| 3.3.6 膜厚对 PS-b-PLA 薄膜形貌和取向的影响 | 第55-56页 |
| 3.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 溶液浇铸法制备的 PS-b-PLA 薄膜的形貌和取向研究 | 第58-72页 |
| 4.1 本章引言 | 第58-59页 |
| 4.2 实验部分 | 第59-60页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第60-71页 |
| 4.3.1 溶剂挥发速度对 PS-b-PLA 薄膜形貌和取向的影响 | 第60-62页 |
| 4.3.2 THF 溶剂退火对 PS-b-PLA 薄膜形貌和取向的影响 | 第62-64页 |
| 4.3.3 溶液浇铸法制备的薄膜的厚度均匀性研究 | 第64-68页 |
| 4.3.4 施加不同压力测试薄膜表面的 AFM 相图 | 第68-71页 |
| 4.4 本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 硕士期间发表论文 | 第83页 |
