| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 TiNi薄膜的制备 | 第10-13页 |
| 1.2.1 TiNi薄膜的制备 | 第10-11页 |
| 1.2.2 TiNi薄膜的马氏体相变与微观组织结构 | 第11-13页 |
| 1.3 TiNi基三元形状记忆合金薄膜 | 第13-17页 |
| 1.3.1 TiNi基薄膜的热处理与马氏体相变 | 第13-15页 |
| 1.3.2 TiNi基薄膜的微观组织结构及形状记忆效应 | 第15-17页 |
| 1.4 NiTiHf合金 | 第17-20页 |
| 1.4.1 NiTiHf合金的相变 | 第18页 |
| 1.4.2 NiTiHf合金的显微组织结构 | 第18-19页 |
| 1.4.3 NiTiHf合金的形状记忆效应 | 第19-20页 |
| 1.5 NiTiHf记忆合金薄膜研究现状 | 第20-22页 |
| 1.6 课题意义和研究内容 | 第22-24页 |
| 1.6.1 课题意义 | 第22页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 材料制备和实验方法 | 第24-27页 |
| 2.1 NiTiHf薄膜的制备 | 第24页 |
| 2.2 NiTiHf薄膜的热处理及实验用样品的制备 | 第24-25页 |
| 2.3 相变温度测试 | 第25页 |
| 2.4 NiTiHf薄膜组织结构的表征 | 第25-27页 |
| 2.4.1 X射线衍射分析 | 第25页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜分析 | 第25-26页 |
| 2.4.3 透射电子显微镜分析 | 第26-27页 |
| 第3章 NiTiHf合金薄膜的制备 | 第27-38页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 Ni Ti Hf薄膜制备 | 第27-33页 |
| 3.2.1 不同溅射功率条件下薄膜的成分及截面形貌 | 第28-29页 |
| 3.2.2 不同Ar气气压条件下薄膜的成分和截面形貌 | 第29-31页 |
| 3.2.3 不同溅射时间下薄膜的成分 | 第31-33页 |
| 3.2.4 薄膜的沉积速率 | 第33页 |
| 3.3 溅射薄膜的成分分布及分析 | 第33-35页 |
| 3.4 薄膜的物相结构 | 第35-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 第4章 NiTiHf合金薄膜晶化行为 | 第38-48页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 Ni Ti Hf薄膜的晶化 | 第38-43页 |
| 4.2.1 溅射薄膜的晶化 | 第38-39页 |
| 4.2.2 溅射薄膜的晶化激活能 | 第39-41页 |
| 4.2.3 溅射薄膜的热处理 | 第41-43页 |
| 4.3 Ni Ti Hf薄膜的组织与结构 | 第43-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第5章 NiTiHf合金薄膜的马氏体相变和微观结构 | 第48-57页 |
| 5.1 引言 | 第48页 |
| 5.2 Ni Ti Hf薄膜的马氏体相变 | 第48-53页 |
| 5.2.1 NiTiHf薄膜的马氏体相变 | 第48-50页 |
| 5.2.2 不同退火温度对NiTiHf薄膜的马氏体相变的影响 | 第50-53页 |
| 5.3 NiTiHf薄膜的微观结构 | 第53-56页 |
| 5.3.1 快速退火下薄膜的微观结构 | 第53-54页 |
| 5.3.2 常规退火下薄膜的微观结构 | 第54-56页 |
| 5.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
