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掺杂和缺陷对单层SnS2物性影响的第一性原理研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第1章 绪论第10-24页
    1.1 引言第10-12页
    1.2 半导体光催化技术第12-14页
        1.2.1 半导体材料第12页
        1.2.2 半导体光催化的基本原理第12-13页
        1.2.3 半导体光催化材料的发展历程第13-14页
    1.3 稀磁半导体技术第14-17页
        1.3.1 稀磁半导体第14-15页
        1.3.2 稀磁半导体的磁性产生机制第15-16页
        1.3.3 稀磁半导体的研究进展第16-17页
    1.4 SnS_2的基本性质第17-20页
        1.4.1 SnS_2的基本晶体结构第17-18页
        1.4.2 SnS_2的电学性质第18-19页
        1.4.3 SnS_2的光学性质第19页
        1.4.4 SnS_2的磁学性质第19-20页
    1.5 SnS_2材料的研究现状第20-22页
    1.6 本论文的主要工作第22-24页
第2章 计算理论的基本原理与计算软件的简单介绍第24-40页
    2.1 Born-Oppenheimer绝热近似第25-27页
    2.2 Hartree-Fock近似第27-28页
    2.3 密度泛函理论第28-30页
        2.3.1 Hohenberg-Kohn定理第28-29页
        2.3.2 Kohn-Sham方程第29-30页
    2.4 交换关联能泛函第30-34页
        2.4.1 局域密度近似第30-31页
        2.4.2 广义梯度近似第31-32页
        2.4.3 修正密度泛函理论(DFT+U)第32-33页
        2.4.4 杂化泛函理论第33-34页
    2.5 平面波基组第34-35页
    2.6 赝势方法第35-36页
    2.7 VASP计算软件包简介第36-40页
第3章 本征SnS_2的几何结构和电子性质第40-46页
    3.1 理论模型与计算方法第40-41页
    3.2 结果分析与讨论第41-43页
        3.2.1 晶体结构第41-42页
        3.2.2 电子结构第42-43页
    3.3 本章小结第43-46页
第4章 Fe/Zn掺杂单层SnS_2的第一性原理研究第46-70页
    4.1 理论模型与计算方法第47-48页
    4.2 Fe掺杂单层SnS_2的第一性原理研究第48-60页
        4.2.1 形成能第48-50页
        4.2.2 几何结构第50页
        4.2.3 电子结构第50-53页
        4.2.4 磁学性质第53-56页
        4.2.5 光学性质第56-60页
    4.3 Zn掺杂单层SnS_2的第一性原理研究第60-67页
        4.3.1 形成能第60页
        4.3.2 几何结构第60-61页
        4.3.3 电子结构第61-63页
        4.3.4 磁学性质第63-65页
        4.3.5 光学性质第65-67页
    4.4 本章小结第67-70页
第5章 含有本征缺陷的单层SnS_2的电子结构与磁学性质第70-82页
    5.1 计算方法与理论模型第70-72页
    5.2 结果分析与讨论第72-79页
        5.2.1 形成能第72-73页
        5.2.2 含有空位缺陷的单层SnS_2的电子结构和磁学性质第73-75页
        5.2.3 含有反占位缺陷的单层SnS_2的电子结构和磁学性质第75-76页
        5.2.4 含有吸附缺陷的单层SnS_2的电子结构和磁学性质第76-78页
        5.2.5 单层SnS_2中本征缺陷之间的磁耦合作用第78-79页
    5.3 本章小结第79-82页
第6章 总结第82-84页
参考文献第84-92页
攻读硕士学位期间发表的论文第92-94页
致谢第94-95页

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