摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第10-32页 |
1.1 研究背景 | 第10-19页 |
1.1.1 工业废水污染现状 | 第10页 |
1.1.2 吡啶的来源、性质与危害 | 第10-12页 |
1.1.3 含吡啶工业废水的处理技术 | 第12-19页 |
1.2 高级氧化技术概述 | 第19-29页 |
1.2.1 传统高级氧化技术 | 第19-24页 |
1.2.2 紫外光激活过氧化氢氧化技术 | 第24-26页 |
1.2.3 过硫酸盐高级氧化技术 | 第26-29页 |
1.3 课题研究意义和研究内容 | 第29-32页 |
1.3.1 课题研究意义 | 第29-30页 |
1.3.2 研究内容 | 第30-31页 |
1.3.3 技术路线图 | 第31-32页 |
第二章 实验部分 | 第32-38页 |
2.1 主要实验仪器及药剂 | 第32-33页 |
2.1.1 主要实验仪器 | 第32页 |
2.1.2 实验药剂 | 第32-33页 |
2.2 实验装置及实验方法 | 第33-34页 |
2.2.1 实验装置 | 第33页 |
2.2.2 实验方法 | 第33-34页 |
2.3 分析指标和检测方法 | 第34-35页 |
2.4 工艺优化方法 | 第35-38页 |
第三章 UV/PS技术降解吡啶的研究 | 第38-58页 |
3.1 UV/PS体系的氧化能力探讨 | 第38-39页 |
3.2 单因素试验 | 第39-45页 |
3.2.1 紫外光照强度对UV/PS工艺降解吡啶的影响 | 第40-41页 |
3.2.2 过硫酸盐投加量对UV/PS工艺降解吡啶的影响 | 第41-42页 |
3.2.3 初始pH值对UV/PS工艺降解吡啶的影响 | 第42-43页 |
3.2.4 反应时间对UV/PS工艺降解吡啶的影响 | 第43-44页 |
3.2.5 氯离子浓度对UV/PS工艺降解吡啶的影响 | 第44-45页 |
3.3 响应面分析 | 第45-50页 |
3.3.1 实验设计及结果 | 第45-46页 |
3.3.2 模型建立 | 第46-47页 |
3.3.3 响应面分析 | 第47-50页 |
3.3.4 最佳工艺条件及模型验证 | 第50页 |
3.4 自由基类型的鉴别 | 第50-52页 |
3.5 UV/PS技术降解吡啶的紫外光谱分析 | 第52-53页 |
3.6 矿化度分析 | 第53页 |
3.7 UV/PS工艺处理吡啶的降解途径 | 第53-54页 |
3.8 本章小结 | 第54-58页 |
第四章 UV/H_2O_2技术降解吡啶的研究 | 第58-76页 |
4.1 UV/H_2O_2体系的氧化能力探讨 | 第58-59页 |
4.2 单因素试验 | 第59-64页 |
4.2.1 紫外光照强度对UV/H_2O_2工艺降解吡啶的影响 | 第59-60页 |
4.2.2 过氧化氢投加量对UV/H_2O_2工艺降解吡啶的影响 | 第60-61页 |
4.2.3 初始pH值对UV/H_2O_2工艺降解吡啶的影响 | 第61-62页 |
4.2.4 反应时间对UV/H_2O_2工艺降解吡啶的影响 | 第62-63页 |
4.2.5 氯离子浓度对UV/H_2O_2工艺降解吡啶的影响 | 第63-64页 |
4.3 响应面分析 | 第64-69页 |
4.3.1 实验设计及结果 | 第64-65页 |
4.3.2 模型建立 | 第65-66页 |
4.3.3 响应面分析 | 第66-69页 |
4.3.4 最佳工艺条件及模型验证 | 第69页 |
4.4 自由基类型的鉴别 | 第69-70页 |
4.5 UV/H_2O_2技术降解吡啶的紫外光谱分析 | 第70-71页 |
4.6 矿化度分析 | 第71-72页 |
4.7 UV/H_2O_2工艺处理吡啶的降解途径 | 第72-73页 |
4.8 本章小结 | 第73-76页 |
第五章 UV/PS和UV/H_2O_2技术降解吡啶的对比研究 | 第76-80页 |
5.1 最佳反应条件下的对比 | 第76-77页 |
5.2 投加等量氧化剂的对比 | 第77-78页 |
5.3 本章小结 | 第78-80页 |
第六章 结论与建议 | 第80-84页 |
6.1 结论 | 第80-82页 |
6.2 创新点 | 第82页 |
6.3 建议 | 第82-84页 |
参考文献 | 第84-92页 |
致谢 | 第92-94页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第94页 |