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紫外光激活过硫酸盐和过氧化氢降解吡啶的研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
第一章 绪论第10-32页
    1.1 研究背景第10-19页
        1.1.1 工业废水污染现状第10页
        1.1.2 吡啶的来源、性质与危害第10-12页
        1.1.3 含吡啶工业废水的处理技术第12-19页
    1.2 高级氧化技术概述第19-29页
        1.2.1 传统高级氧化技术第19-24页
        1.2.2 紫外光激活过氧化氢氧化技术第24-26页
        1.2.3 过硫酸盐高级氧化技术第26-29页
    1.3 课题研究意义和研究内容第29-32页
        1.3.1 课题研究意义第29-30页
        1.3.2 研究内容第30-31页
        1.3.3 技术路线图第31-32页
第二章 实验部分第32-38页
    2.1 主要实验仪器及药剂第32-33页
        2.1.1 主要实验仪器第32页
        2.1.2 实验药剂第32-33页
    2.2 实验装置及实验方法第33-34页
        2.2.1 实验装置第33页
        2.2.2 实验方法第33-34页
    2.3 分析指标和检测方法第34-35页
    2.4 工艺优化方法第35-38页
第三章 UV/PS技术降解吡啶的研究第38-58页
    3.1 UV/PS体系的氧化能力探讨第38-39页
    3.2 单因素试验第39-45页
        3.2.1 紫外光照强度对UV/PS工艺降解吡啶的影响第40-41页
        3.2.2 过硫酸盐投加量对UV/PS工艺降解吡啶的影响第41-42页
        3.2.3 初始pH值对UV/PS工艺降解吡啶的影响第42-43页
        3.2.4 反应时间对UV/PS工艺降解吡啶的影响第43-44页
        3.2.5 氯离子浓度对UV/PS工艺降解吡啶的影响第44-45页
    3.3 响应面分析第45-50页
        3.3.1 实验设计及结果第45-46页
        3.3.2 模型建立第46-47页
        3.3.3 响应面分析第47-50页
        3.3.4 最佳工艺条件及模型验证第50页
    3.4 自由基类型的鉴别第50-52页
    3.5 UV/PS技术降解吡啶的紫外光谱分析第52-53页
    3.6 矿化度分析第53页
    3.7 UV/PS工艺处理吡啶的降解途径第53-54页
    3.8 本章小结第54-58页
第四章 UV/H_2O_2技术降解吡啶的研究第58-76页
    4.1 UV/H_2O_2体系的氧化能力探讨第58-59页
    4.2 单因素试验第59-64页
        4.2.1 紫外光照强度对UV/H_2O_2工艺降解吡啶的影响第59-60页
        4.2.2 过氧化氢投加量对UV/H_2O_2工艺降解吡啶的影响第60-61页
        4.2.3 初始pH值对UV/H_2O_2工艺降解吡啶的影响第61-62页
        4.2.4 反应时间对UV/H_2O_2工艺降解吡啶的影响第62-63页
        4.2.5 氯离子浓度对UV/H_2O_2工艺降解吡啶的影响第63-64页
    4.3 响应面分析第64-69页
        4.3.1 实验设计及结果第64-65页
        4.3.2 模型建立第65-66页
        4.3.3 响应面分析第66-69页
        4.3.4 最佳工艺条件及模型验证第69页
    4.4 自由基类型的鉴别第69-70页
    4.5 UV/H_2O_2技术降解吡啶的紫外光谱分析第70-71页
    4.6 矿化度分析第71-72页
    4.7 UV/H_2O_2工艺处理吡啶的降解途径第72-73页
    4.8 本章小结第73-76页
第五章 UV/PS和UV/H_2O_2技术降解吡啶的对比研究第76-80页
    5.1 最佳反应条件下的对比第76-77页
    5.2 投加等量氧化剂的对比第77-78页
    5.3 本章小结第78-80页
第六章 结论与建议第80-84页
    6.1 结论第80-82页
    6.2 创新点第82页
    6.3 建议第82-84页
参考文献第84-92页
致谢第92-94页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第94页

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