3D显示液晶光栅的研制与测试
摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-16页 |
1.1 引言 | 第11-13页 |
1.2 本文主要工作 | 第13-14页 |
1.3 本论文的结构安排 | 第14-16页 |
第二章 基于液晶光栅实现的立体显示技术 | 第16-24页 |
2.1 立体显示相关的分析 | 第16-19页 |
2.1.1 裸眼 3D 技术 | 第17-18页 |
2.1.2 视差屏障式裸眼 3D 显示技术 | 第18-19页 |
2.2 视差屏障式液晶光栅的实现理论分析 | 第19-23页 |
2.2.1 TN-LCD 液晶光栅 | 第19-21页 |
2.2.1.1 TN 型液晶显示器的结构分析 | 第19-20页 |
2.2.1.2 TN 型液晶显示原理 | 第20-21页 |
2.2.2 液晶光栅的显示分析 | 第21-22页 |
2.2.3 刻蚀相关参数的几何分析与计算 | 第22-23页 |
2.3 本章小结 | 第23-24页 |
第三章 ITO 电极制作工艺的研究与分析 | 第24-33页 |
3.1 湿法刻蚀分析 | 第24-29页 |
3.1.1 光刻胶工艺 | 第26-28页 |
3.1.2 湿法刻蚀分析总结 | 第28-29页 |
3.2 快速激光刻蚀技术 | 第29页 |
3.3 两种刻蚀方法的比较 | 第29-30页 |
3.4 在 ITO 基片上制作条纹电极的方案 | 第30-32页 |
3.4.1 选取掩膜层材料 | 第30-31页 |
3.4.2 方案 | 第31-32页 |
3.4.3 数控激光刻蚀加工系统指标要求 | 第32页 |
3.5 本章小结 | 第32-33页 |
第四章 数控激光刻蚀加工系统的研制 | 第33-53页 |
4.1 数控激光刻蚀加工系统的总体设计结构 | 第33-34页 |
4.2 系统结构的设计 | 第34-35页 |
4.3 系统软件的设计 | 第35-39页 |
4.3.1 通信接口 | 第35页 |
4.3.2 通信协议 | 第35-36页 |
4.3.3 编写软件界面程序 | 第36-39页 |
4.3.3.1 MSComm 控件 | 第36-37页 |
4.3.3.2 软件界面的编写 | 第37-39页 |
4.4 系统硬件的设计 | 第39-49页 |
4.4.1 步进电机 | 第39页 |
4.4.2 步进电机驱动器 | 第39-40页 |
4.4.3 细分驱动技术 | 第40页 |
4.4.4 驱动器的选择 | 第40-41页 |
4.4.5 单片机硬件控制系统 | 第41页 |
4.4.6 步进电机驱动器控制板的设计 | 第41-43页 |
4.4.7 驱动控制分析 | 第43-46页 |
4.4.7.1 移动距离受单片机控制的分析 | 第43-44页 |
4.4.7.2 运行速度受单片机控制的分析 | 第44页 |
4.4.7.3 细分驱动设置的影响 | 第44-46页 |
4.4.8 限位保护器的设置 | 第46-47页 |
4.4.9 激光器的控制 | 第47-49页 |
4.4.9.1 激光器的选择 | 第47页 |
4.4.9.2 激光器控制板电路设计 | 第47-49页 |
4.5 数控激光刻蚀加工系统的控制部分的工作原理 | 第49-51页 |
4.6 本章小结 | 第51-53页 |
第五章 ITO 基片的刻蚀与液晶光栅的制备 | 第53-64页 |
5.1 ITO 玻璃上掩膜层的制备方法 | 第53页 |
5.2 ITO 玻璃基片上掩膜层图形的刻蚀制作 | 第53-60页 |
5.2.1 激光器光束分析 | 第53-54页 |
5.2.2 激光器的聚焦 | 第54-55页 |
5.2.3 激光器聚焦后刻蚀线宽分析 | 第55-57页 |
5.2.4 ITO 基片上掩膜层的激光刻蚀 | 第57-60页 |
5.3 ITO 基片的化学刻蚀 | 第60-61页 |
5.4 液晶光栅的封盒制作过程 | 第61-63页 |
5.5 本章小结 | 第63-64页 |
第六章 液晶光栅的测试与验证 | 第64-71页 |
6.1 液晶光栅的电光性能测试 | 第64-67页 |
6.1.1 液晶光栅制作质量的检验 | 第64页 |
6.1.2 测试前的准备工作 | 第64-65页 |
6.1.3 液晶光栅的电光特性测试 | 第65-67页 |
6.2 液晶光栅的实际效果测试 | 第67-70页 |
6.3 本章小结 | 第70-71页 |
第七章 总结与展望 | 第71-73页 |
7.1 工作总结 | 第71页 |
7.2 存在的不足与展望 | 第71-73页 |
致谢 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-77页 |