| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 引言 | 第11-18页 |
| 1.1 大模场单模光纤研究意义及研究进展 | 第12-15页 |
| 1.1.1 大模场单模光纤的研究意义 | 第12-13页 |
| 1.1.2 大模场单模光纤的研究进展 | 第13-15页 |
| 1.2 掺铥光纤放大器研究意义及研究进展 | 第15-17页 |
| 1.2.1 掺铥光纤放大器研究意义 | 第15-16页 |
| 1.2.2 掺铥光纤放大器研究进展 | 第16-17页 |
| 1.3 本文的结构安排 | 第17-18页 |
| 2 大模场掺铥光纤放大器的理论分析 | 第18-29页 |
| 2.1 大模场光纤结构设计 | 第18-21页 |
| 2.1.1 非均匀布拉格光纤的理论分析 | 第18-20页 |
| 2.1.2 光纤参量的影响 | 第20-21页 |
| 2.2 掺铥光纤放大器结构分析 | 第21-24页 |
| 2.2.1 铥元素的基本特性 | 第21-22页 |
| 2.2.2 铥离子的泵浦方式 | 第22-23页 |
| 2.2.3 光纤放大器的结构描述 | 第23-24页 |
| 2.3 掺铥光纤放大器的性能研究 | 第24-27页 |
| 2.3.1 掺铥光纤放大器中的受激布里渊效应 | 第25-26页 |
| 2.3.2 掺铥光纤放大器的影响因素 | 第26-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-29页 |
| 3 非均匀布拉格光纤结构仿真分析 | 第29-44页 |
| 3.1 非均匀布拉格光纤的数值分析 | 第29-32页 |
| 3.1.1 基于有限元法的IBF模式分析 | 第29-31页 |
| 3.1.2 IBF特性参数的数值计算 | 第31-32页 |
| 3.2 IBF结构参数对模场面积影响 | 第32-38页 |
| 3.2.1 IBF光纤的结构设计 | 第33-34页 |
| 3.2.2 IBF模场仿真分析 | 第34-38页 |
| 3.3 对于H-G(上升型)模型结构的参数优化 | 第38-40页 |
| 3.3.1 最内层折射率对模场面积的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.2 纤芯各层厚度比对于模场面积的影响 | 第39-40页 |
| 3.3.3 外层折射率对模场面积的影响 | 第40页 |
| 3.4 光纤弯曲损耗 | 第40-41页 |
| 3.5 光纤结构稳定性分析 | 第41-43页 |
| 3.6 本章小结 | 第43-44页 |
| 4 大模场掺铥光纤放大器设计 | 第44-60页 |
| 4.1 掺铥光纤放大器模型 | 第44-46页 |
| 4.2 数值计算方法 | 第46-49页 |
| 4.2.1 牛顿迭代法 | 第46-48页 |
| 4.2.2 龙格-库塔法 | 第48-49页 |
| 4.3 793 nm波长泵浦掺铥光纤放大器仿真分析 | 第49-57页 |
| 4.3.1 放大器功率分布 | 第50-52页 |
| 4.3.2 泵浦功率的影响 | 第52-54页 |
| 4.3.3 铥离子掺杂浓度的影响 | 第54页 |
| 4.3.4 模场面积的影响 | 第54-57页 |
| 4.4 掺铥光纤放大器稳定性分析 | 第57-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-60页 |
| 5 结论 | 第60-62页 |
| 5.1 本文工作总结 | 第60-61页 |
| 5.2 未来的工作展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第66-68页 |
| 学位论文数据集 | 第68页 |