| 摘要 | 第8-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 纳米光催化剂研究现状 | 第11-14页 |
| 1.1.1 纳米Bi_2WO_6光催化剂研究现状 | 第11-12页 |
| 1.1.2 非纳米Bi_2WO_6光催化剂研究现状 | 第12-14页 |
| 1.2 纳米Bi_2WO_6光催化剂的改性研究现状 | 第14-16页 |
| 1.2.1 掺杂改性 | 第14-15页 |
| 1.2.2 半导体耦合 | 第15-16页 |
| 1.2.3 贵金属修饰 | 第16页 |
| 1.2.4 碳材料修饰 | 第16页 |
| 1.3 纳米Bi_2WO_6光催化剂的制备研究现状 | 第16-19页 |
| 1.3.1 水热合成法 | 第17页 |
| 1.3.2 微波辅助水热合成法 | 第17页 |
| 1.3.3 溶剂热法 | 第17-18页 |
| 1.3.4 微乳液法 | 第18页 |
| 1.3.5 溶胶-凝胶法 | 第18页 |
| 1.3.6 固相法 | 第18-19页 |
| 1.4 纳米Bi_2WO_6光催化剂的应用研究现状 | 第19-20页 |
| 1.4.1 污水处理 | 第19页 |
| 1.4.2 空气净化 | 第19-20页 |
| 1.4.3 消毒杀菌 | 第20页 |
| 1.5 本文的立题依据与研究内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 立题依据 | 第20页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第22-26页 |
| 2.1 实验试剂 | 第22页 |
| 2.2 实验仪器和设备 | 第22-23页 |
| 2.3 实验方法 | 第23-26页 |
| 2.3.1 Bi_2WO_6纳米复合光催化剂的水热制备 | 第23页 |
| 2.3.2 光催化剂的表征 | 第23-24页 |
| 2.3.3 Bi_2WO_6纳米光催化剂的光活性评价 | 第24-26页 |
| 第3章 Bi_2WO_6光催化剂的制备及光催化性能研究 | 第26-33页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 Bi_2WO_6纳米光催化剂的水热法制备工艺研究 | 第26-30页 |
| 3.2.1 前驱物浓度对Bi_2WO_6纳米粒子光催化活性的影响 | 第26-27页 |
| 3.2.2 反应液初始pH值对Bi_2WO_6纳米粒子光催化活性的影响 | 第27-28页 |
| 3.2.3 水热时间对Bi_2WO_6纳米粒子光催化活性的影响 | 第28-29页 |
| 3.2.4 焙烧温度对Bi_2WO_6纳米粒子光催化活性的影响 | 第29页 |
| 3.2.5 焙烧时间对Bi_2WO_6纳米粒子光催化活性的影响 | 第29-30页 |
| 3.3 Bi_2WO_6纳米光催化剂的结构及性能表征 | 第30-32页 |
| 3.3.1 XRD分析 | 第30-31页 |
| 3.3.2 TEM分析 | 第31页 |
| 3.3.3 UV-vis吸收光谱分析 | 第31-32页 |
| 3.3.4 XPS分析 | 第32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章 La修饰Bi_2WO_6纳米光催化剂的制备及表征 | 第33-43页 |
| 4.1 引言 | 第33页 |
| 4.2 La-Bi_2WO_6纳米光催化剂的水热法制备工艺研究 | 第33-37页 |
| 4.2.1 La掺杂量对La-Bi_2WO_6光催化活性的影响 | 第33-34页 |
| 4.2.2 反应液初始pH值对La-Bi_2WO_6光催化活性的影响 | 第34-35页 |
| 4.2.3 水热时间对La-Bi_2WO_6光催化活性的影响 | 第35页 |
| 4.2.4 焙烧温度对La-Bi_2WO_6光催化活性的影响 | 第35-36页 |
| 4.2.5 焙烧时间对La-Bi_2WO_6光催化活性的影响 | 第36-37页 |
| 4.3 La-Bi_2WO_6纳米光催化剂的结构及性能表征 | 第37-42页 |
| 4.3.1 XRD分析 | 第37页 |
| 4.3.2 UV-vis吸收光谱分析 | 第37-38页 |
| 4.3.3 FL分析 | 第38-39页 |
| 4.3.4 PL分析 | 第39页 |
| 4.3.5 SPS分析 | 第39-40页 |
| 4.3.6 TEM分析 | 第40-41页 |
| 4.3.7 XPS分析 | 第41-42页 |
| 4.3.8 光催化活性 | 第42页 |
| 4.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 结论 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-51页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53页 |
