| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 聚酰亚胺的发展及应用 | 第10-12页 |
| 1.1.1 聚酰亚胺简介 | 第10-11页 |
| 1.1.2 聚酰亚胺种类及性能 | 第11页 |
| 1.1.3 聚酰亚胺的应用 | 第11-12页 |
| 1.2 纳米掺杂聚酰亚胺的研究概况 | 第12-16页 |
| 1.2.1 聚酰亚胺复合薄膜的制备方法 | 第13页 |
| 1.2.2 纳米掺杂聚酰亚胺的研究进展 | 第13-16页 |
| 1.3 本论文的主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 实验材料与测试方法 | 第17-23页 |
| 2.1 实验原料与仪器 | 第17-18页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第17-18页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第18页 |
| 2.2 结构表征方法 | 第18-20页 |
| 2.2.1 X射线衍射测试 | 第18页 |
| 2.2.2 Zeta电位测试 | 第18-19页 |
| 2.2.3 透射电镜测试（TEM） | 第19页 |
| 2.2.4 吸水率测试 | 第19页 |
| 2.2.5 小角X射线散射测试（SAXS） | 第19-20页 |
| 2.2.6 FTIR红外吸收光谱测试 | 第20页 |
| 2.3 性能测试及形貌观察 | 第20-22页 |
| 2.3.1 介电谱测试 | 第20页 |
| 2.3.2 老化性能测试 | 第20-21页 |
| 2.3.3 表面形貌分析（SEM） | 第21页 |
| 2.3.4 热性能分析 | 第21-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 第3章 PI/SiO_2纳米复合薄膜的制备与结构表征 | 第23-42页 |
| 3.1 聚酰亚胺的合成原理 | 第23页 |
| 3.2 二氧化硅的结构与特性 | 第23-24页 |
| 3.3 PI/SiO_2的制备与SiO_2改性机理 | 第24-27页 |
| 3.3.1 PI/SiO_2的制备 | 第24-26页 |
| 3.3.2 气相SiO_2表面改性机理 | 第26-27页 |
| 3.4 SiO_2颗粒的微观结构和表面状态 | 第27-32页 |
| 3.4.1 SiO_2颗粒的X射线衍射表征 | 第27页 |
| 3.4.2 纳米SiO_2颗粒的形貌 | 第27-30页 |
| 3.4.3 纳米SiO_2颗粒的表面状态 | 第30-32页 |
| 3.5 PI/SiO_2的微观结构 | 第32-40页 |
| 3.5.1 PI/SiO_2的红外光谱表征 | 第32-35页 |
| 3.5.2 PI/SiO_2的吸水率测试 | 第35页 |
| 3.5.3 PI/SiO_2的X射线散射强度和分形特征 | 第35-40页 |
| 3.6 本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 PI/SiO_2纳米复合材料的性能分析 | 第42-56页 |
| 4.1 PI/SiO_2纳米复合薄膜的热性能 | 第42-45页 |
| 4.2 PI/SiO_2纳米复合薄膜的极化特性 | 第45-50页 |
| 4.2.1 传统介电理论 | 第45-46页 |
| 4.2.2 电介质极化的种类与特性 | 第46页 |
| 4.2.3 PI/SiO_2纳米复合薄膜的介电常数频谱 | 第46-48页 |
| 4.2.4 PI/SiO_2纳米复合薄膜的损耗角正切 | 第48-50页 |
| 4.3 薄膜的耐电晕寿命与老化机理分析 | 第50-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
