| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第9页 |
| 1.2 AlMgB_(14)的基本性质 | 第9-13页 |
| 1.2.1 AlMgB_(14)的结构性质 | 第10-11页 |
| 1.2.2 AlMgB_(14)的力学性能 | 第11-12页 |
| 1.2.3 AlMgB_(14)的热膨胀系数 | 第12-13页 |
| 1.2.4 AlMgB_(14)的电学性能 | 第13页 |
| 1.2.5 AlMgB_(14)的其他性质 | 第13页 |
| 1.3 Al-Mg-B薄膜的研究现状 | 第13-16页 |
| 1.4 Al-Mg-B薄膜的测试表征方法 | 第16-22页 |
| 1.5 本文课题的主要研究内容 | 第22-23页 |
| 2 实验设备与工艺 | 第23-28页 |
| 2.1 JGP-450型高真空三靶磁控溅射系统 | 第23-24页 |
| 2.2 Al-Mg-B薄膜的制备工艺 | 第24-28页 |
| 2.2.1 溅射靶材材料 | 第24-25页 |
| 2.2.2 基片的选择及预处理 | 第25-26页 |
| 2.2.3 制备流程 | 第26-27页 |
| 2.2.4 测试表征方法 | 第27-28页 |
| 3 沉积气压对Al-Mg-B薄膜性能的影响 | 第28-37页 |
| 3.1 不同沉积气压下Al-Mg-B薄膜的制备方法 | 第28-29页 |
| 3.2 结果与分析 | 第29-35页 |
| 3.2.1 成分分析 | 第29-30页 |
| 3.2.2 沉积速率分析 | 第30-31页 |
| 3.2.3 表面形貌分析 | 第31-32页 |
| 3.2.4 结构分析 | 第32-34页 |
| 3.2.5 硬度分析 | 第34-35页 |
| 3.3 本章小结 | 第35-37页 |
| 4 负偏压对Al-Mg-B薄膜性能的影响 | 第37-45页 |
| 4.1 不同负偏压下Al-Mg-B薄膜的制备方法 | 第37-38页 |
| 4.2 结果与分析 | 第38-44页 |
| 4.2.1 成分分析 | 第38-39页 |
| 4.2.2 沉积速率分析 | 第39-40页 |
| 4.2.3 表面形貌分析 | 第40-42页 |
| 4.2.4 结构分析 | 第42-43页 |
| 4.2.5 硬度分析 | 第43-44页 |
| 4.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 5 硼靶溅射功率对软金属铝基底上沉积Al-Mg-B薄膜的性能影响 | 第45-53页 |
| 5.1 不同硼靶溅射功率下Al-Mg-B薄膜的制备方法 | 第45-46页 |
| 5.2 结果与分析 | 第46-52页 |
| 5.2.1 成分分析 | 第46-47页 |
| 5.2.2 沉积速率分析 | 第47-48页 |
| 5.2.3 表面形貌分析 | 第48页 |
| 5.2.4 结构分析 | 第48-49页 |
| 5.2.5 硬度分析 | 第49-50页 |
| 5.2.6 膜基结合力分析 | 第50-52页 |
| 5.3 本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
