| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-32页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 SiC纤维的研究进展 | 第13-17页 |
| 1.2.1 SiC的晶体结构及性能 | 第13-15页 |
| 1.2.2 连续SiC纤维的发展概况 | 第15-17页 |
| 1.3 化学气相沉积原理及应用 | 第17-20页 |
| 1.3.1 化学气相沉积原理 | 第17-19页 |
| 1.3.2 化学气相沉积技术的应用 | 第19-20页 |
| 1.4 CVD法SiC纤维的制备工艺 | 第20-25页 |
| 1.4.1 CVD SiC常用的加热方式 | 第20-22页 |
| 1.4.2 影响CVD SiC的工艺参数 | 第22-25页 |
| 1.4.2.1 沉积温度 | 第22-23页 |
| 1.4.2.2 反应气体组分及流量 | 第23-25页 |
| 1.5 拉曼光谱原理及应用 | 第25-30页 |
| 1.5.1 拉曼散射原理 | 第25-27页 |
| 1.5.2 拉曼光谱的应用 | 第27-30页 |
| 1.5.2.1 成分鉴别和相变研究中的应用 | 第27-28页 |
| 1.5.2.2 材料结构研究中的应用 | 第28-29页 |
| 1.5.2.3 微观力学研究中的应用 | 第29-30页 |
| 1.6 本文研究目的及主要内容 | 第30-32页 |
| 第2章 实验方法 | 第32-38页 |
| 2.1 实验原料 | 第32-34页 |
| 2.2 纤维力学性能测试 | 第34-35页 |
| 2.3 SiC纤维表征方法 | 第35-38页 |
| 第3章 CVD法SiC纤维的制备 | 第38-50页 |
| 3.1 引言 | 第38页 |
| 3.2 沉积装置 | 第38-41页 |
| 3.2.1 沉积装置的主体 | 第38-39页 |
| 3.2.2 沉积装置的其它部件 | 第39-40页 |
| 3.2.3 制备SiC纤维的工艺流程 | 第40-41页 |
| 3.3 制备工艺对纤维性能的影响 | 第41-45页 |
| 3.3.1 反应气体组分及流量 | 第41-42页 |
| 3.3.2 沉积功率 | 第42-43页 |
| 3.3.3 走丝速度 | 第43-45页 |
| 3.4 SiC纤维的Weibull模数分析 | 第45-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 CVD法SiC纤维微观结构分析 | 第50-72页 |
| 4.1 SiC纤维横截面的结构组成 | 第50-52页 |
| 4.2 纤维断口形貌与力学性能 | 第52-53页 |
| 4.3 SiC纤维的断裂特征分析 | 第53-56页 |
| 4.4 SiC纤维的拉曼光谱分析 | 第56-65页 |
| 4.4.1 实验方法 | 第56-57页 |
| 4.4.2 结果与讨论 | 第57-65页 |
| 4.4.2.1 W芯边缘 | 第58-59页 |
| 4.4.2.2 SiC内部沉积层区域 | 第59-61页 |
| 4.4.2.3 SiC外部沉积层区域 | 第61-63页 |
| 4.4.2.4 表面碳涂层区域 | 第63-65页 |
| 4.5 不同性能纤维的Raman mapping | 第65-69页 |
| 4.5.1 实验方法 | 第65页 |
| 4.5.2 结果与讨论 | 第65-69页 |
| 4.5.2.1 低性能纤维Raman mapping | 第66-67页 |
| 4.5.2.2 中等性能纤维Raman mapping | 第67-68页 |
| 4.5.2.3 高性能纤维Raman mapping | 第68-69页 |
| 4.6 本章小结 | 第69-72页 |
| 第5章 拉曼光谱研究SiC纤维残余应力 | 第72-82页 |
| 5.1 引言 | 第72页 |
| 5.2 残余应力与纤维性能 | 第72-77页 |
| 5.2.1 残余应力计算的理论基础 | 第72-73页 |
| 5.2.2 实验方法 | 第73-74页 |
| 5.2.3 结果与讨论 | 第74-77页 |
| 5.3 SiC纤维表面应力研究 | 第77-81页 |
| 5.3.1 实验方法 | 第77页 |
| 5.3.2 结果与讨论 | 第77-81页 |
| 5.4 本章小结 | 第81-82页 |
| 第6章 结论 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-92页 |
| 致谢 | 第92页 |
