摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第9-13页 |
第1章 绪论 | 第13-43页 |
1.1 光催化环境净化技术 | 第13-14页 |
1.2 半导体光催化剂及其光催化原理 | 第14-15页 |
1.3 新型半导体催化剂 | 第15-24页 |
1.3.1 钒酸铋 | 第16-17页 |
1.3.2 卤化氧铋 | 第17-18页 |
1.3.3 钼酸铋 | 第18-19页 |
1.3.4 氧化铋 | 第19-20页 |
1.3.5 钨酸铋 | 第20-21页 |
1.3.6 异质结型催化剂 | 第21-24页 |
1.4 钨酸铋的改性 | 第24-36页 |
1.4.1 半导体复合 | 第25-28页 |
1.4.2 离子掺杂 | 第28-30页 |
1.4.3 碳负载 | 第30-34页 |
1.4.4 构筑多元异质结 | 第34-36页 |
1.5 催化剂的固化及光催化反应器的研究现状 | 第36-38页 |
1.5.1 催化剂的固化 | 第36页 |
1.5.2 光催化反应器的研究现状 | 第36-38页 |
1.6 本文的选题依据及主要内容 | 第38-43页 |
1.6.1 研究意义 | 第38页 |
1.6.2 研究内容及技术路线 | 第38-43页 |
第2章 实验方法 | 第43-51页 |
2.1 实验材料与仪器 | 第43-44页 |
2.2 催化剂的制备 | 第44-46页 |
2.2.1 Bi_2WO_6/Bi_2O_3异质结的制备 | 第44页 |
2.2.2 Bi_2WO_6/Bi_2O_3异质结的固化 | 第44-45页 |
2.2.3 硫掺杂 Bi_2WO_6/Bi_2O_3多元异质结的制备 | 第45页 |
2.2.4 Bi_2WO_6/Bi_2O_3负载还原氧化石墨烯多元异质结的制备 | 第45-46页 |
2.3 表征方法 | 第46-48页 |
2.3.1 X 射线衍射(XRD) | 第46页 |
2.3.2 扫描电镜(SEM) | 第46页 |
2.3.3 电子能谱(XPS) | 第46-47页 |
2.3.4 傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第47页 |
2.3.5 紫外可见光(UV vis-DRS) | 第47页 |
2.3.6 固体光致发光光谱(PL) | 第47-48页 |
2.4 光催化活性评价 | 第48-49页 |
2.4.1 光催化活性评价 | 第48页 |
2.4.2 光催化活性测试装置 | 第48-49页 |
2.5 光催化催化反应器 | 第49-51页 |
2.5.1 连续池式光催化反应器 | 第49-50页 |
2.5.2 两段管式光催化反应器 | 第50-51页 |
第3章 Bi_2WO_6/Bi_2O_3异质结的制备及光催化性能研究 | 第51-67页 |
3.1 催化剂的表征 | 第52-60页 |
3.1.1 XRD 图谱分析 | 第52-53页 |
3.1.2 SEM 电镜分析 | 第53-55页 |
3.1.3 XPS 能谱分析 | 第55-56页 |
3.1.4 FT-IR 光谱分析 | 第56-58页 |
3.1.5 UV vis – DRS 光谱分析 | 第58-59页 |
3.1.6 PL 光谱分析 | 第59-60页 |
3.2 可见光催化活性 | 第60-63页 |
3.2.1 可见光催化活性 | 第60-62页 |
3.2.2 COD(Cr)检测 | 第62-63页 |
3.2.3 循环降解 | 第63页 |
3.3 可见光催化机理分析 | 第63-66页 |
3.3.1 Bi_2WO_6/Bi_2O_3异质结形成机理 | 第63-64页 |
3.3.2 光催化活性增强机理 | 第64-66页 |
3.4 本章小结 | 第66-67页 |
第4章 Bi_2WO_6/Bi_2O_3固定化及在连续池式光催化反应器中的应用 | 第67-77页 |
4.1 催化剂的表征 | 第67-70页 |
4.1.1 XRD 图谱分析 | 第67-68页 |
4.1.2 SEM 电镜图分析 | 第68-70页 |
4.2 光催化活性 | 第70-72页 |
4.2.1 催化剂的负载量 | 第70-71页 |
4.2.2 可见光催化活性 | 第71-72页 |
4.2.3 循环降解 | 第72页 |
4.3 光催化反应器应用 | 第72-75页 |
4.4 本章小结 | 第75-77页 |
第5章 硫掺杂 Bi_2WO_6/Bi_2O_3多元异质结的制备及光催化性能研究 | 第77-93页 |
5.1 催化剂的表征 | 第77-85页 |
5.1.1 XRD 图谱分析 | 第77-79页 |
5.1.2 SEM 电镜图分析 | 第79-80页 |
5.1.3 XPS 能谱分析 | 第80-81页 |
5.1.4 FT-IR 光谱分析 | 第81-83页 |
5.1.5 UV-DRS 光谱分析 | 第83-84页 |
5.1.6 PL 光谱分析 | 第84-85页 |
5.2 可见光催化活性 | 第85-88页 |
5.2.1 可见光催化活性 | 第85-87页 |
5.2.2 COD(Cr) 值检测 | 第87-88页 |
5.2.3 循环降解 | 第88页 |
5.3 可见光催化机理分析 | 第88-91页 |
5.3.1 S-BWO 多元异质结催化剂的形成机理 | 第88-90页 |
5.3.2 增强光催化活性机理 | 第90-91页 |
5.4 本章小结 | 第91-93页 |
第6章 Bi_2WO_6/Bi_2O_3负载还原氧化石墨烯多元异质结的制备及光催化性能研究 | 第93-113页 |
6.1 催化剂的表征 | 第94-101页 |
6.1.1 XRD 图谱分析 | 第94-95页 |
6.1.2 SEM 电镜图分析 | 第95-96页 |
6.1.3 XPS 能谱分析 | 第96-98页 |
6.1.4 FT-IR 光谱分析 | 第98-99页 |
6.1.5 UV-DRS 光谱分析 | 第99-100页 |
6.1.6 PL 光谱分析 | 第100-101页 |
6.2 可见光催化活性 | 第101-105页 |
6.2.1 可见光催化活性 | 第101-103页 |
6.2.2 COD(Cr) 值检测 | 第103-104页 |
6.2.3 循环降解 | 第104-105页 |
6.3 光催化反应器应用 | 第105-108页 |
6.3.1 最佳催化剂的确定 | 第105-106页 |
6.3.2 光催化反应器应用 | 第106-108页 |
6.4 可见光催化机理分析 | 第108-111页 |
6.4.1 BWO@R 多元异质结催化剂的形成机理 | 第108-109页 |
6.4.2 光催化活性增强机理 | 第109-111页 |
本章小结 | 第111-113页 |
第7章 结论与建议 | 第113-117页 |
7.1 结论 | 第113-115页 |
7.2 建议 | 第115-117页 |
创新点 | 第117-119页 |
参考文献 | 第119-133页 |
作者简介及科研成果 | 第133-136页 |
致谢 | 第136页 |