| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 砷污染概述 | 第10-14页 |
| 1.1.1 砷污染来源 | 第10页 |
| 1.1.2 水体中的砷污染 | 第10-11页 |
| 1.1.3 砷污染危害 | 第11页 |
| 1.1.4 除砷技术研究现状 | 第11-14页 |
| 1.2 镉污染概述 | 第14-17页 |
| 1.2.1 镉污染来源 | 第14-15页 |
| 1.2.2 镉污染危害 | 第15页 |
| 1.2.3 镉污染治理与控制 | 第15-17页 |
| 1.3 石墨烯的特征及制备方法 | 第17-20页 |
| 1.3.1 微机械分离法 | 第18页 |
| 1.3.2 取向附生法-晶膜生长 | 第18页 |
| 1.3.3 加热Si C法 | 第18-19页 |
| 1.3.4 化学气相沉积法(CVD) | 第19页 |
| 1.3.5 氧化还原法 | 第19-20页 |
| 1.4 本论文研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 磁性氧化石墨烯的制备及表征 | 第21-31页 |
| 2.1 引言 | 第21-22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-25页 |
| 2.2.1 试剂 | 第22-23页 |
| 2.2.2 仪器 | 第23页 |
| 2.2.3 传统制备氧化石墨烯的方法 | 第23-24页 |
| 2.2.4 改进制备氧化石墨烯的方法 | 第24页 |
| 2.2.5 氧化石墨烯的磁性负载 | 第24页 |
| 2.2.6 两种制备氧化石墨烯的方法比较 | 第24-25页 |
| 2.3 表征及分析 | 第25-30页 |
| 2.3.1 扫描电镜分析 | 第25-27页 |
| 2.3.2 分析 | 第27页 |
| 2.3.3 傅里叶红外光谱分析 | 第27-28页 |
| 2.3.4 饱和磁场强度分析 | 第28-29页 |
| 2.3.5 Zeta电位分析 | 第29-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 磁性氧化石墨烯吸附水中Cd(Ⅱ)的研究 | 第31-42页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 实验部分 | 第31-41页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第31页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第31-32页 |
| 3.2.3 初始p H值对吸附的影响 | 第32-33页 |
| 3.2.4 温度对吸附的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.5 吸附动力学研究 | 第34-36页 |
| 3.2.6 等温吸附研究 | 第36-38页 |
| 3.2.7 磁性氧化石墨烯在自来水中对Cd(II)的去除 | 第38-40页 |
| 3.2.8 吸附剂的解吸与循环使用 | 第40-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 磁性氧化石墨烯吸附水中As(V)的研究 | 第42-53页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 实验部分 | 第42-51页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第42页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第42-43页 |
| 4.2.3 初始p H值对吸附的影响 | 第43-44页 |
| 4.2.4 温度对吸附的影响 | 第44-45页 |
| 4.2.5 吸附动力学研究 | 第45-47页 |
| 4.2.6 等温吸附研究 | 第47-49页 |
| 4.2.7 磁性氧化石墨烯在自来水中对As(Ⅴ)的去除 | 第49-50页 |
| 4.2.8 吸附剂的解吸与循环使用 | 第50-51页 |
| 4.3 本章小结 | 第51-53页 |
| 第5章 磁性氧化石墨烯同时去除As(Ⅴ)和Cd(Ⅱ) | 第53-61页 |
| 5.1 引言 | 第53页 |
| 5.2 实验部分 | 第53-60页 |
| 5.2.1 实验试剂 | 第53页 |
| 5.2.2 实验仪器 | 第53-54页 |
| 5.2.3 协同吸附实验 | 第54-56页 |
| 5.2.4 p H影响实验 | 第56-58页 |
| 5.2.5 先后吸附实验 | 第58-60页 |
| 5.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 第6章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69页 |
