| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第10-31页 |
| 1.1 电子鼻 | 第10-15页 |
| 1.1.1 电子鼻的定义 | 第10-11页 |
| 1.1.2 电子鼻发展简史 | 第11-12页 |
| 1.1.3 电子鼻工作原理 | 第12页 |
| 1.1.4 电子鼻在多领域中的应用 | 第12-13页 |
| 1.1.5 电子鼻技术研究现状与发展趋势 | 第13-15页 |
| 1.2 荧光气敏传感阵列 | 第15-18页 |
| 1.2.1 气体传感器 | 第15-16页 |
| 1.2.2 卟啉荧光气体传感器 | 第16-17页 |
| 1.2.3 卟啉荧光气敏传感阵列 | 第17-18页 |
| 1.3 金属表面增强荧光 | 第18-22页 |
| 1.3.1 金属表面增强荧光原理 | 第18-19页 |
| 1.3.2 影响金属表面增强荧光效果的因素 | 第19-20页 |
| 1.3.3 固体金属膜增强荧光的相关研究 | 第20-21页 |
| 1.3.4 液相金属纳米粒子增强荧光的相关研究 | 第21-22页 |
| 1.4 光子晶体增强荧光 | 第22-25页 |
| 1.4.1 光子晶体的概念及性质 | 第22-23页 |
| 1.4.2 垂直沉积法制备光子晶体 | 第23页 |
| 1.4.3 胶体晶体的光子禁带的调控 | 第23-24页 |
| 1.4.4 光子晶体增强荧光 | 第24-25页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-31页 |
| 第二章 基于局域表面等离子体共振的荧光增强基底 | 第31-43页 |
| 2.1 序言 | 第31-32页 |
| 2.2 实验部分 | 第32-35页 |
| 2.2.1 试剂与仪器 | 第32页 |
| 2.2.2 真空蒸镀法制备金膜 | 第32-33页 |
| 2.2.3 二维胶体晶体膜的制备 | 第33-34页 |
| 2.2.4 介孔二氧化硅膜的制备 | 第34-35页 |
| 2.2.5 基于局域表面等离子体共振的荧光增强基底对R6G的荧光增强 | 第35页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第35-40页 |
| 2.3.1 基于局域表面等离子体共振的荧光增强基底的制备 | 第35-38页 |
| 2.3.2 基于局域表面等离子共振体的荧光增强基底对R6G的荧光增强 | 第38-40页 |
| 2.4 本章总结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-43页 |
| 第三章 基于铝镜反射的荧光增强基底 | 第43-52页 |
| 3.1 序言 | 第43页 |
| 3.2 实验部分 | 第43-44页 |
| 3.2.1 试剂与仪器 | 第43页 |
| 3.2.2 真空蒸镀法制备铝膜 | 第43-44页 |
| 3.2.3 二氧化硅膜的制备 | 第44页 |
| 3.2.4 基于铝镜反射的荧光增强基底对R6G的荧光增强 | 第44页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第44-50页 |
| 3.3.1 基于铝镜反射的荧光增强基底的制备 | 第44-47页 |
| 3.3.2 铝膜厚度对R6G荧光强度的影响 | 第47-48页 |
| 3.3.3 二氧化硅膜厚度对R6G荧光强度的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.4 基于铝镜反射的荧光增强基底对R6G的荧光增强 | 第49-50页 |
| 3.4 本章总结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 第四章 基于布拉格衍射的荧光增强基底 | 第52-65页 |
| 4.1 序言 | 第52页 |
| 4.2 实验部分 | 第52-53页 |
| 4.2.1 试剂与仪器 | 第52-53页 |
| 4.2.2 二氧化硅胶体光子晶体薄膜的制备 | 第53页 |
| 4.2.3 核糖封闭胶体光子晶体薄膜 | 第53页 |
| 4.2.4 基于布拉格衍射的荧光增强基底对R6G的荧光增强 | 第53页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第53-63页 |
| 4.3.1 基于布拉格衍射的荧光增强基底的制备 | 第53-56页 |
| 4.3.2 胶体光子晶体反射峰位置对R6G荧光强度的影响 | 第56-58页 |
| 4.3.3 胶体光子晶体厚度对R6G荧光强度的影响 | 第58-60页 |
| 4.3.4 基于布拉格衍射的荧光增强基底对R6G的荧光增强 | 第60-63页 |
| 4.4 本章总结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |
| 第五章 基于荧光增强基底的气敏传感阵列的制备及气体检测 | 第65-76页 |
| 5.1 序言 | 第65-66页 |
| 5.2 实验部分 | 第66-69页 |
| 5.2.1 试剂与仪器 | 第66-67页 |
| 5.2.2 基于荧光增强基底的气敏传感阵列的制备 | 第67页 |
| 5.2.3 气体反应腔的制备 | 第67-68页 |
| 5.2.4 电子鼻装置的组装 | 第68-69页 |
| 5.2.5 气体检测操作及采集图像步骤 | 第69页 |
| 5.2.6 荧光增强基底与TLC对气敏阵列气体检测的影响对比 | 第69页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第69-73页 |
| 5.3.1 基于荧光增强基底的气敏传感阵列气体检测 | 第69-71页 |
| 5.3.2 荧光增强基底与TLC对气敏阵列气体检测的影响对比 | 第71-73页 |
| 5.4 本章总结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 第六章 总结与展望 | 第76-77页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
