摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-30页 |
·非离子表面活性剂——烷基糖苷 | 第10-12页 |
·烷基糖苷的结构及性能 | 第10-11页 |
·烷基糖苷的发展与现状 | 第11-12页 |
·烷基糖苷的合成 | 第12-14页 |
·糖苷化机理 | 第12-13页 |
·直接苷化法 | 第13页 |
·转糖苷法 | 第13-14页 |
·酶催化法 | 第14页 |
·烷基糖苷的应用 | 第14-17页 |
·用于洗涤剂工业 | 第15页 |
·用于化妆品工业 | 第15页 |
·用于食品加工业 | 第15-16页 |
·用于纺织工业 | 第16页 |
·用于石油工业 | 第16页 |
·用于农业 | 第16-17页 |
·用于医药行业 | 第17页 |
·表面活性剂的聚集行为研究 | 第17-25页 |
·表面活性剂的临界胶束浓度 | 第17-18页 |
·传统测量临界胶束浓度的方法 | 第18-20页 |
·光谱学方法测量表面活性剂的cmc | 第20-25页 |
·表面活性剂的复配 | 第25-26页 |
·表面活性剂复配的分类 | 第25-26页 |
·本文的研究内容与意义 | 第26-30页 |
·研究的主要内容及创新点 | 第26-27页 |
·高斯多峰拟合(Multi-Peaks Gaussian Fitting)原理 | 第27-29页 |
·频谱分峰拟合计算(高斯多峰拟合) | 第29-30页 |
第二章 烷基糖苷的合成及表征 | 第30-39页 |
·引言 | 第30-31页 |
·材料与方法 | 第31-34页 |
·材料与试剂 | 第31页 |
·仪器与设备 | 第31-32页 |
·实验方法 | 第32-33页 |
·产物后处理 | 第33-34页 |
·结果与讨论 | 第34-39页 |
·产物结构的表征 | 第34-36页 |
·单因素优化试验 | 第36-39页 |
第三章 可见吸收光谱研究纯烷基糖苷的聚集行为 | 第39-47页 |
·引言 | 第39页 |
·材料与方法 | 第39-41页 |
·材料试剂 | 第39-40页 |
·仪器与设备 | 第40页 |
·实验方法 | 第40-41页 |
·结果与讨论 | 第41-47页 |
·可见吸收光谱研究烷基糖苷的聚集行为 | 第41-42页 |
·高斯多峰拟合后各光谱参数与APG 浓度关系 | 第42-47页 |
第四章 可见吸收光谱研究复配后烷基糖苷的聚集行为 | 第47-73页 |
·引言 | 第47页 |
·材料与方法 | 第47-49页 |
·材料与试剂 | 第47页 |
·仪器与设备 | 第47-48页 |
·实验方法 | 第48-49页 |
·结果与讨论 | 第49-73页 |
·可见吸收光谱研究复配体系的聚集行为 | 第49-52页 |
·高斯多峰拟合后各光谱参数与受影响液浓度的关系 | 第52-63页 |
·高斯多峰拟合后各光谱参数与受影响液浓度的关系 | 第63-73页 |
第五章 荧光发射光谱研究复配后烷基糖苷的聚集行为 | 第73-84页 |
·引言 | 第73页 |
·材料与方法 | 第73-75页 |
·材料与试剂 | 第73页 |
·仪器与设备 | 第73-74页 |
·实验方法 | 第74-75页 |
·结果与讨论 | 第75-84页 |
·荧光发射光谱研究复配体系的聚集行为 | 第75-76页 |
·高斯多峰拟合后各光谱参数与受影响液浓度的关系 | 第76-84页 |
第六章 结论与展望 | 第84-87页 |
·结论 | 第84-85页 |
·展望 | 第85-87页 |
参考文献 | 第87-91页 |
硕士期间发表的论文 | 第91-92页 |
致谢 | 第92页 |