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氮化硅集成光波导损耗特性研究

摘要第5-6页
Abstract第6页
第一章 绪论第9-14页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 国内外研究现状第10-12页
        1.2.1 光波导与光纤的端面耦合损耗研究现状第10-11页
        1.2.2 光波导的散射损耗研究现状第11-12页
    1.3 论文主要研究内容及创新点第12-14页
第二章 氮化硅光波导的设计与制备第14-37页
    2.1 氮化硅单模光波导的设计第14-24页
        2.1.1 单模条件的计算第14-16页
        2.1.2 弯曲半径的计算第16-19页
        2.1.3 耦合间距与耦合长度的计算第19-23页
        2.1.4 掩膜版设计第23-24页
    2.2 氮化硅光波导的制备第24-27页
    2.3 氮化硅光波导的损耗测量第27-35页
        2.3.1 截断法测量氮化硅光波导损耗第27-31页
        2.3.2 谐振法测量氮化硅光波导损耗第31-33页
        2.3.3 CCD法测量氮化硅光波导损耗第33-35页
    2.4 本章小节第35-37页
第三章 氮化硅波导与光纤的端面耦合的研究第37-43页
    3.1第37-39页
        3.1.1 模场失配损耗第37-38页
        3.1.2 菲涅尔反射损耗第38-39页
    3.2 模斑转换器的设计与模拟第39-42页
    3.3 本章小结第42-43页
第四章 改善氮化硅光波导侧壁粗糙度的初步实验第43-53页
    4.1 光波导侧壁散射损耗第43-45页
    4.2 激光热回流减小氮化硅波导侧壁粗糙度第45-52页
        4.2.1 热回流理论模型第45-47页
        4.2.2 二氧化碳激光热回流实验第47-52页
    4.3 本章小结第52-53页
第五章 总结与展望第53-55页
致谢第55-57页
参考文献第57-63页
作者简介第63页

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