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铝合金阳极氧化及电沉积二氧化硅制备热控涂层

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第1章 绪论第9-20页
    1.1 选题依据第9-10页
    1.2 热控涂层国内外研究现状第10-13页
        1.2.1 热控原理第10页
        1.2.2 国外热控涂层研究进展第10-11页
        1.2.3 国内热控涂层研究现状第11-12页
        1.2.4 有机热控涂层与无机热控涂层的比较第12-13页
    1.3 电化学型热控涂层第13-14页
        1.3.1 铝/铝合金光亮阳极氧化涂层第13页
        1.3.2 铝阳极氧化着色涂层第13-14页
    1.4 铝氧化膜电沉积研究进展第14-17页
        1.4.1 单一粒子电沉积第14页
        1.4.2 复合粒子电沉积第14-15页
        1.4.3 溶胶凝胶溶液电沉积第15页
        1.4.4.输出电源波形变化第15-16页
        1.4.5 脉冲电沉积第16页
        1.4.6 超声波电沉积第16-17页
    1.5 铝基氧化膜电沉积制备功能膜的主要应用第17-19页
        1.5.1 在催化领域的应用第17页
        1.5.2 在光学领域的应用第17-18页
        1.5.3 在太阳能吸收膜领域应用第18页
        1.5.4 在电容器领域的应用第18页
        1.5.5 在磁性材料领域的应用第18-19页
    1.6 本课题研究内容和意义第19-20页
第2章 实验方法第20-26页
    2.1 实验材料、药品和仪器设备第20-22页
        2.1.1 实验材料第20页
        2.1.2 实验药品第20-21页
        2.1.3 仪器设备第21-22页
    2.2 工艺流程第22页
    2.3 阳极氧化工艺第22-24页
        2.3.1 除油第22-23页
        2.3.2 碱蚀第23页
        2.3.3 除灰第23-24页
        2.3.4 阳极氧化第24页
    2.4 性能测试第24-25页
    2.5 电化学测试第25-26页
第3章 铝合金阳极氧化工艺对 αs/εH的影响第26-36页
    3.1 前言第26页
    3.2 实验结果与讨论第26-35页
        3.2.1 电流密度对氧化膜的光学性质的影响第27-28页
        3.2.2 电解液温度对氧化膜的光学性质的影响第28-30页
        3.2.3 氧化时间对氧化膜的光学性质的影响第30-32页
        3.2.4 表面粗糙度对氧化膜的光学性质的影响第32-34页
        3.2.5 表面形貌对氧化膜的光学性质的影响第34-35页
    3.3 本章小结第35-36页
第4章 铝合金复合盐封孔制备热控涂层第36-50页
    4.1 前言第36页
    4.2 封孔工艺第36-37页
    4.3 复合盐封孔制备热控涂层的正交实验第37-42页
    4.4 阳极氧化热控涂层的耐蚀性研究第42-47页
        4.4.1 交流阻抗第42-45页
        4.4.2 极化曲线分析第45-47页
    4.5 表面形貌分析第47-48页
    4.6 本章小结第48-50页
第5章 铝合金电沉积二氧化硅制备热控涂层第50-75页
    5.1 前言第50页
    5.2 sol-gel前驱体材料溶液条件第50-53页
        5.2.1 前驱体的选择第50-51页
        5.2.2 溶剂的选择第51页
        5.2.3 支持电解质第51-52页
        5.2.4 溶液pH影响第52-53页
        5.2.5 固化第53页
        5.2.6 溶液的配制第53页
    5.3 电沉积条件对动电位极化曲线的影响第53-57页
        5.3.1 表面活性剂对动电位极化曲线的影响第53-54页
        5.3.2 电沉积电压对动电位极化曲线的影响第54-55页
        5.3.3 溶液pH对动电位极化曲线的影响第55-56页
        5.3.4 电沉积时间对动电位极化曲线的影响第56-57页
    5.4 微观形貌分析第57-61页
        5.4.1 交直流电沉积微观形貌分析第57-59页
        5.4.2 表明活性剂对微观形貌的影响第59页
        5.4.3 电沉积电压对微观形貌的影响第59-61页
    5.5 基于Box-Behnken光学性能的工艺优化第61-71页
        5.5.1 试验设计方案第61-63页
        5.5.2 回归模型分析第63-65页
        5.5.3 残差检验第65-66页
        5.5.4 响应曲面分析与工艺优化第66-71页
    5.6 二氧化硅热控涂层腐蚀加速研究第71-73页
    5.7 本章小结第73-75页
第6章 结论第75-77页
参考文献第77-81页
攻读硕士期间发表论文及参加学术会议第81-82页
致谢第82-83页

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