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用于溅射靶材的钴基合金及细晶纯金属微观组织的研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第1章 绪论第10-21页
    1.1 课题研究的背景和意义第10-11页
    1.2 靶材的制备工艺概论第11-12页
        1.2.1 熔融铸造法第11-12页
        1.2.2 粉末冶金法第12页
    1.3 细晶溅射靶材制备方法第12-17页
        1.3.1 ECAE工艺第13-14页
        1.3.2 ARB工艺第14页
        1.3.3 HPT工艺第14-15页
        1.3.4 MAC工艺第15-16页
        1.3.5 TE工艺第16-17页
    1.4 金属靶材的性能指标第17-19页
        1.4.1 纯度第17页
        1.4.2 杂质含量第17页
        1.4.3 致密度第17-18页
        1.4.4 晶粒尺寸及分布均匀性第18页
        1.4.5 晶体的取向第18页
        1.4.6 成分组织分布均匀性第18页
        1.4.7 靶材尺寸与几何形状第18-19页
    1.5 金属靶材的研究意义第19页
    1.6 金属靶材研究现状第19页
    1.7 论文研究的目的、内容及难点第19-21页
        1.7.1 研究目的第19-20页
        1.7.2 研究内容第20页
        1.7.3 研究难点第20-21页
第2章 实验设备与实验方法第21-29页
    2.1 引言第21页
    2.2 实验材料和设备第21-24页
        2.2.1 实验材料第21页
        2.2.2 熔炼设备及铸造模具第21-22页
        2.2.3 压缩设备及模具第22-23页
        2.2.4 超声波清洁机第23页
        2.2.5 真空退火炉第23-24页
        2.2.6 其它设备第24页
    2.3 实验过程第24-26页
        2.3.1 非晶成分溅射靶材制备过程第24-25页
        2.3.2 细晶溅射靶材制备过程第25-26页
    2.4 实验方法第26-28页
        2.4.1 密度测试第26页
        2.4.2 OM分析技术第26页
        2.4.3 硬度分析技术第26-27页
        2.4.4 DSC分析技术第27页
        2.4.5 XRD分析技术第27-28页
        2.4.6 扫描技术(SEM)第28页
        2.4.7 电子背散射衍射技术(EBSD)第28页
        2.4.8 透射技术(TEM)第28页
    2.5 本章小结第28-29页
第3章 铸造钴基合金及组织分析第29-41页
    3.1 熔炼及铸造工艺第29-30页
    3.2 钴基合金组织分析第30-39页
        3.2.1 成分测试分析第30页
        3.2.2 金相观测第30-31页
        3.2.3 X射线衍射(XRD)分析第31-32页
        3.2.4 扫描电镜(SEM)分析第32页
        3.2.5 扫描电镜中的EDS分析第32-36页
        3.2.6 透射电镜(TEM)分析第36-38页
        3.2.7 电子背散射衍射(EBSD)第38页
        3.2.8 DSC分析第38-39页
    3.3 本章小结第39-41页
第4章 细晶纯金属的制备与组织研究第41-56页
    4.1 多向压缩工艺参数的研究第41-42页
    4.2 压缩模具设计第42-44页
    4.3 压缩变形后的纯铝组织与性能分析第44-49页
        4.3.1 显微硬度分析第44-45页
        4.3.2 初始材料微观组织分析第45-46页
        4.3.3 变形过程组织变化第46-47页
        4.3.4 退火工艺的研究第47页
        4.3.5 不同压缩工艺下的微观组织分析第47-49页
    4.4 压缩变形后的纯铜组织与性能分析第49-54页
        4.4.1 微观硬度分析第49-50页
        4.4.2 热处理参数分析第50-51页
        4.4.3 微观组织分析第51-54页
    4.5 讨论部分第54页
    4.6 本章小结第54-56页
结论第56-58页
参考文献第58-63页
攻读硕士期间承担的科研任务与主要成果第63-64页
致谢第64页

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