用于溅射靶材的钴基合金及细晶纯金属微观组织的研究
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-21页 |
1.1 课题研究的背景和意义 | 第10-11页 |
1.2 靶材的制备工艺概论 | 第11-12页 |
1.2.1 熔融铸造法 | 第11-12页 |
1.2.2 粉末冶金法 | 第12页 |
1.3 细晶溅射靶材制备方法 | 第12-17页 |
1.3.1 ECAE工艺 | 第13-14页 |
1.3.2 ARB工艺 | 第14页 |
1.3.3 HPT工艺 | 第14-15页 |
1.3.4 MAC工艺 | 第15-16页 |
1.3.5 TE工艺 | 第16-17页 |
1.4 金属靶材的性能指标 | 第17-19页 |
1.4.1 纯度 | 第17页 |
1.4.2 杂质含量 | 第17页 |
1.4.3 致密度 | 第17-18页 |
1.4.4 晶粒尺寸及分布均匀性 | 第18页 |
1.4.5 晶体的取向 | 第18页 |
1.4.6 成分组织分布均匀性 | 第18页 |
1.4.7 靶材尺寸与几何形状 | 第18-19页 |
1.5 金属靶材的研究意义 | 第19页 |
1.6 金属靶材研究现状 | 第19页 |
1.7 论文研究的目的、内容及难点 | 第19-21页 |
1.7.1 研究目的 | 第19-20页 |
1.7.2 研究内容 | 第20页 |
1.7.3 研究难点 | 第20-21页 |
第2章 实验设备与实验方法 | 第21-29页 |
2.1 引言 | 第21页 |
2.2 实验材料和设备 | 第21-24页 |
2.2.1 实验材料 | 第21页 |
2.2.2 熔炼设备及铸造模具 | 第21-22页 |
2.2.3 压缩设备及模具 | 第22-23页 |
2.2.4 超声波清洁机 | 第23页 |
2.2.5 真空退火炉 | 第23-24页 |
2.2.6 其它设备 | 第24页 |
2.3 实验过程 | 第24-26页 |
2.3.1 非晶成分溅射靶材制备过程 | 第24-25页 |
2.3.2 细晶溅射靶材制备过程 | 第25-26页 |
2.4 实验方法 | 第26-28页 |
2.4.1 密度测试 | 第26页 |
2.4.2 OM分析技术 | 第26页 |
2.4.3 硬度分析技术 | 第26-27页 |
2.4.4 DSC分析技术 | 第27页 |
2.4.5 XRD分析技术 | 第27-28页 |
2.4.6 扫描技术(SEM) | 第28页 |
2.4.7 电子背散射衍射技术(EBSD) | 第28页 |
2.4.8 透射技术(TEM) | 第28页 |
2.5 本章小结 | 第28-29页 |
第3章 铸造钴基合金及组织分析 | 第29-41页 |
3.1 熔炼及铸造工艺 | 第29-30页 |
3.2 钴基合金组织分析 | 第30-39页 |
3.2.1 成分测试分析 | 第30页 |
3.2.2 金相观测 | 第30-31页 |
3.2.3 X射线衍射(XRD)分析 | 第31-32页 |
3.2.4 扫描电镜(SEM)分析 | 第32页 |
3.2.5 扫描电镜中的EDS分析 | 第32-36页 |
3.2.6 透射电镜(TEM)分析 | 第36-38页 |
3.2.7 电子背散射衍射(EBSD) | 第38页 |
3.2.8 DSC分析 | 第38-39页 |
3.3 本章小结 | 第39-41页 |
第4章 细晶纯金属的制备与组织研究 | 第41-56页 |
4.1 多向压缩工艺参数的研究 | 第41-42页 |
4.2 压缩模具设计 | 第42-44页 |
4.3 压缩变形后的纯铝组织与性能分析 | 第44-49页 |
4.3.1 显微硬度分析 | 第44-45页 |
4.3.2 初始材料微观组织分析 | 第45-46页 |
4.3.3 变形过程组织变化 | 第46-47页 |
4.3.4 退火工艺的研究 | 第47页 |
4.3.5 不同压缩工艺下的微观组织分析 | 第47-49页 |
4.4 压缩变形后的纯铜组织与性能分析 | 第49-54页 |
4.4.1 微观硬度分析 | 第49-50页 |
4.4.2 热处理参数分析 | 第50-51页 |
4.4.3 微观组织分析 | 第51-54页 |
4.5 讨论部分 | 第54页 |
4.6 本章小结 | 第54-56页 |
结论 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-63页 |
攻读硕士期间承担的科研任务与主要成果 | 第63-64页 |
致谢 | 第64页 |