百千伏超快电子衍射系统的研发
摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 简介 | 第9-21页 |
1.1 背景 | 第9-10页 |
1.2 产生及发展 | 第10-13页 |
1.3 探测实例 | 第13-16页 |
1.4 国内现状 | 第16-18页 |
1.5 仪器研发思路 | 第18-21页 |
第二章 100KV直流光阴极电子枪的设计 | 第21-39页 |
2.1 电子枪真空放电机理 | 第21-22页 |
2.2 电子枪模拟优化 | 第22-24页 |
2.3 电子枪设计 | 第24-28页 |
2.4 电子枪工作模式 | 第28-30页 |
2.5 三倍频原理 | 第30页 |
2.6 电源及接入 | 第30-38页 |
2.6.1 高压真空接入 | 第30-33页 |
2.6.2 限流电阻及保护 | 第33-36页 |
2.6.3 绝缘介质放电稳定性 | 第36-37页 |
2.6.4 电子枪电源 | 第37-38页 |
2.7 小结 | 第38-39页 |
第三章 基于系统设计的模拟—改善的平均场模型 | 第39-59页 |
3.1 平均场模型介绍 | 第39-42页 |
3.2 电场边界处修正 | 第42-44页 |
3.3 修正的平均场模型 | 第44-49页 |
3.3.1 加速区 | 第45-47页 |
3.3.2 边界修正 | 第47-49页 |
3.3.3 自由漂移区 | 第49页 |
3.4 结果讨论 | 第49-55页 |
3.4.1 计算结果 | 第50页 |
3.4.2 Boundary kick的构成 | 第50-51页 |
3.4.3 其它近似算法 | 第51-55页 |
3.5 阳极孔的影响 | 第55-57页 |
3.6 小结 | 第57-59页 |
第四章 基于系统设计的模拟—电子光学模拟 | 第59-67页 |
4.1 磁透镜 | 第59-62页 |
4.1.1 磁透镜模拟 | 第59-60页 |
4.1.2 N-particle模拟 | 第60-62页 |
4.2 RF谐振腔 | 第62-65页 |
4.2.1 谐振腔参数 | 第62-63页 |
4.2.2 谐振腔N-particle模拟 | 第63-65页 |
4.3 小结 | 第65-67页 |
第五章 超高真空腔体 | 第67-81页 |
5.1 腔体设计 | 第67-70页 |
5.1.1 紧凑型设计 | 第67-68页 |
5.1.2 磁透镜的绕制工艺 | 第68页 |
5.1.3 靶室窗口 | 第68-69页 |
5.1.4 泵浦反射镜 | 第69-70页 |
5.2 腔室重要部分尺寸 | 第70-74页 |
5.2.1 靶室 | 第70-72页 |
5.2.2 电子枪腔室 | 第72-73页 |
5.2.3 排气 | 第73-74页 |
5.3 真空实现 | 第74-79页 |
5.3.1 外接真空装置 | 第74-75页 |
5.3.2 腔体烘烤 | 第75-78页 |
5.3.3 腔体真空工作记录 | 第78-79页 |
5.4 小结 | 第79-81页 |
第六章 系统其它构成 | 第81-89页 |
6.1 样品送入调节装置 | 第81-83页 |
6.2 探测部分 | 第83-87页 |
6.2.1 法拉第筒设计 | 第83-85页 |
6.2.2 成像系统 | 第85-87页 |
6.3 基于LabVIEW的数据采集系统 | 第87页 |
6.4 小结 | 第87-89页 |
第七章 系统整体 | 第89-95页 |
7.1 系统构成 | 第89-91页 |
7.2 系统法兰尺寸 | 第91-93页 |
7.3 系统后期升级 | 第93-94页 |
7.4 小结 | 第94-95页 |
第八章 GAAS电子表面衍射实验 | 第95-107页 |
8.1 研究背景 | 第95-96页 |
8.2 实验布局 | 第96-98页 |
8.3 电子阴影 | 第98-102页 |
8.3.1 实验原理 | 第98-99页 |
8.3.2 电子阴影成像 | 第99页 |
8.3.3 电子阴影成像模拟 | 第99-102页 |
8.4 衍射条纹 | 第102-104页 |
8.5 电场及电荷密度 | 第104-105页 |
8.6 小结 | 第105-107页 |
第九章 总结和展望 | 第107-109页 |
参考文献 | 第109-119页 |
个人简历及发表文章目录 | 第119-121页 |
致谢 | 第121-123页 |