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百千伏超快电子衍射系统的研发

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 简介第9-21页
    1.1 背景第9-10页
    1.2 产生及发展第10-13页
    1.3 探测实例第13-16页
    1.4 国内现状第16-18页
    1.5 仪器研发思路第18-21页
第二章 100KV直流光阴极电子枪的设计第21-39页
    2.1 电子枪真空放电机理第21-22页
    2.2 电子枪模拟优化第22-24页
    2.3 电子枪设计第24-28页
    2.4 电子枪工作模式第28-30页
    2.5 三倍频原理第30页
    2.6 电源及接入第30-38页
        2.6.1 高压真空接入第30-33页
        2.6.2 限流电阻及保护第33-36页
        2.6.3 绝缘介质放电稳定性第36-37页
        2.6.4 电子枪电源第37-38页
    2.7 小结第38-39页
第三章 基于系统设计的模拟—改善的平均场模型第39-59页
    3.1 平均场模型介绍第39-42页
    3.2 电场边界处修正第42-44页
    3.3 修正的平均场模型第44-49页
        3.3.1 加速区第45-47页
        3.3.2 边界修正第47-49页
        3.3.3 自由漂移区第49页
    3.4 结果讨论第49-55页
        3.4.1 计算结果第50页
        3.4.2 Boundary kick的构成第50-51页
        3.4.3 其它近似算法第51-55页
    3.5 阳极孔的影响第55-57页
    3.6 小结第57-59页
第四章 基于系统设计的模拟—电子光学模拟第59-67页
    4.1 磁透镜第59-62页
        4.1.1 磁透镜模拟第59-60页
        4.1.2 N-particle模拟第60-62页
    4.2 RF谐振腔第62-65页
        4.2.1 谐振腔参数第62-63页
        4.2.2 谐振腔N-particle模拟第63-65页
    4.3 小结第65-67页
第五章 超高真空腔体第67-81页
    5.1 腔体设计第67-70页
        5.1.1 紧凑型设计第67-68页
        5.1.2 磁透镜的绕制工艺第68页
        5.1.3 靶室窗口第68-69页
        5.1.4 泵浦反射镜第69-70页
    5.2 腔室重要部分尺寸第70-74页
        5.2.1 靶室第70-72页
        5.2.2 电子枪腔室第72-73页
        5.2.3 排气第73-74页
    5.3 真空实现第74-79页
        5.3.1 外接真空装置第74-75页
        5.3.2 腔体烘烤第75-78页
        5.3.3 腔体真空工作记录第78-79页
    5.4 小结第79-81页
第六章 系统其它构成第81-89页
    6.1 样品送入调节装置第81-83页
    6.2 探测部分第83-87页
        6.2.1 法拉第筒设计第83-85页
        6.2.2 成像系统第85-87页
    6.3 基于LabVIEW的数据采集系统第87页
    6.4 小结第87-89页
第七章 系统整体第89-95页
    7.1 系统构成第89-91页
    7.2 系统法兰尺寸第91-93页
    7.3 系统后期升级第93-94页
    7.4 小结第94-95页
第八章 GAAS电子表面衍射实验第95-107页
    8.1 研究背景第95-96页
    8.2 实验布局第96-98页
    8.3 电子阴影第98-102页
        8.3.1 实验原理第98-99页
        8.3.2 电子阴影成像第99页
        8.3.3 电子阴影成像模拟第99-102页
    8.4 衍射条纹第102-104页
    8.5 电场及电荷密度第104-105页
    8.6 小结第105-107页
第九章 总结和展望第107-109页
参考文献第109-119页
个人简历及发表文章目录第119-121页
致谢第121-123页

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