| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 光学表面波与导模共振 | 第10-26页 |
| 1.1 光子晶体/介电超晶格 | 第10-16页 |
| 1.1.1 光子晶体的概念和分类 | 第10-11页 |
| 1.1.2 光子晶体的制备方法 | 第11-13页 |
| 1.1.3 光子晶体带隙 | 第13-16页 |
| 1.2 光子晶体表面波 | 第16-19页 |
| 1.2.1 光子晶体表面波的产生与应用 | 第16-17页 |
| 1.2.2 介电超晶格结构表面波的激发 | 第17-19页 |
| 1.3 导模共振效应 | 第19-22页 |
| 1.3.1 导模共振效应的概念和产生原理 | 第19-20页 |
| 1.3.2 导模共振效应的应用 | 第20-22页 |
| 1.4 填充型纳米周期光栅结构 | 第22-23页 |
| 1.5 本文研究的目的和意义 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-26页 |
| 第二章 导模共振与严格耦合波方法 | 第26-32页 |
| 2.1 导模共振的理论研究方法 | 第26页 |
| 2.2 严格耦合波理论(Rigorous Coupled-Wave Analysis,RCWA) | 第26-30页 |
| 2.2.1 理论内容和适用范围 | 第26-27页 |
| 2.2.2 耦合波分析方法 | 第27-30页 |
| 参考文献 | 第30-32页 |
| 第三章 介电超晶格/填充型纳米周期光栅复合结构的光学特性 | 第32-52页 |
| 3.1 介电超晶格/填充型纳米周期光栅复合结构 | 第32-35页 |
| 3.1.1 纳米复合介电结构简介 | 第32-33页 |
| 3.1.2 复合纳米介电结构的特性 | 第33-35页 |
| 3.2 理论模拟与结构设计 | 第35-48页 |
| 3.2.1 导模共振透射异常现象及场分布 | 第35-37页 |
| 3.2.2 多层膜结构参数对光子晶体禁带的影响 | 第37-41页 |
| 3.2.2.1 多层膜材料对光子晶体禁带的影响 | 第37-39页 |
| 3.2.2.2 多层膜周期数对光子晶体禁带的影响 | 第39-40页 |
| 3.2.2.3 多层膜厚度对光子晶体禁带的影响 | 第40-41页 |
| 3.2.3 复合介电光栅结构参数对表面波激发的影响 | 第41-48页 |
| 3.2.3.1 光栅周期对表面波激发的影响 | 第41-45页 |
| 3.2.3.2 光栅高度对表面波激发的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.3.3 光栅占空比对表面波激发的影响 | 第46-47页 |
| 3.2.3.4 光栅层材料组合对表面波激发的影响 | 第47-48页 |
| 3.3 性能优化 | 第48-49页 |
| 3.4 小结 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 第四章 介电超晶格/填充型纳米周期光栅复合结构制备方法与结构性能测试表征 | 第52-70页 |
| 4.1 复合结构的制备 | 第52-67页 |
| 4.1.1 介电超晶格的实验室制备 | 第52-57页 |
| 4.1.2 介电超晶格/填充型纳米周期光栅复合结构的制备流程 | 第57-61页 |
| 4.1.2.1 纳米压印工艺简介 | 第57-59页 |
| 4.1.2.2 复合结构制备流程 | 第59-61页 |
| 4.1.3 制备过程和结果 | 第61-66页 |
| 4.1.4 误差分析 | 第66-67页 |
| 4.2 小结 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-70页 |
| 第五章 结论与展望 | 第70-72页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表及专利申请 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
