| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-12页 |
| 1.1.1 C_f/Sic抗氧化涂层的制备要求 | 第10-11页 |
| 1.1.2 C_f/Sic抗氧化涂层的分类 | 第11-12页 |
| 1.2 超高温陶瓷涂层材料与制备方法 | 第12-16页 |
| 1.2.1 超高温陶瓷涂层材料 | 第12-14页 |
| 1.2.2 超高温陶瓷涂层制备方法 | 第14-16页 |
| 1.3 超高温陶瓷涂层烧蚀氧化研究 | 第16-19页 |
| 1.4 论文研究意义和主要内容 | 第19-21页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第19-20页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 实验与研究方法 | 第21-30页 |
| 2.1 实验研究流程图 | 第21-22页 |
| 2.2 实验原料及设备 | 第22-23页 |
| 2.2.1 C_f/SiC复合材料基体制备及研磨所用原料及耗材 | 第22页 |
| 2.2.2 抗氧化涂层制备所用试剂及粉末 | 第22-23页 |
| 2.2.3 实验设备 | 第23页 |
| 2.3 C_f/SiC复合材料的制备 | 第23-26页 |
| 2.3.1 碳纤维预制体的准备 | 第24页 |
| 2.3.2 熔融渗硅 | 第24-25页 |
| 2.3.3 表面处理 | 第25页 |
| 2.3.4 体积密度测定 | 第25-26页 |
| 2.4 抗氧化涂层的制备 | 第26-27页 |
| 2.4.1 料浆旋涂法制备预涂层 | 第26页 |
| 2.4.2 反应熔渗法制备抗氧化涂层 | 第26-27页 |
| 2.5 分析与测试 | 第27-30页 |
| 2.5.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第27页 |
| 2.5.2 扫描电子显微镜(SEM)及能谱(EDS)分析 | 第27-28页 |
| 2.5.3 抗烧蚀性能分析 | 第28页 |
| 2.5.4 抗弯曲强度分析 | 第28-30页 |
| 第三章 G_f/SiC基体预涂层的制备研究 | 第30-38页 |
| 3.1 原材料分析 | 第30-31页 |
| 3.2 预涂层制备 | 第31-34页 |
| 3.3 预涂层微观组织形貌分析 | 第34-37页 |
| 3.3.1 B_4C体系 | 第34-36页 |
| 3.3.2 B_4C+SiC体系 | 第36页 |
| 3.3.3 石墨体系 | 第36-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 C_f/SiC基体抗氧化涂层的制备研究 | 第38-52页 |
| 4.1 B_4C体系,锆含量10wt% | 第38-40页 |
| 4.1.1 B30Z10涂层物相分析 | 第38-39页 |
| 4.1.2 B30Z10涂层微观组织结构分析 | 第39-40页 |
| 4.2 B_4V体系,锆含量26.5wt% | 第40-46页 |
| 4.2.1 涂层物相分析 | 第40-41页 |
| 4.2.2 涂层微观组织结构分析 | 第41-46页 |
| 4.3 B_4C+SiC体系 | 第46-49页 |
| 4.3.1 B15S15Z26涂层物相分析 | 第46-47页 |
| 4.3.2 B15S15Z26涂层微观组织结构分析 | 第47-49页 |
| 4.4 石墨体系 | 第49-51页 |
| 4.4.1 G20Z26涂层物相分析 | 第49页 |
| 4.4.2 G20Z26涂层微观组织结构分析 | 第49-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 烧蚀性能研究 | 第52-74页 |
| 5.1 烧蚀 | 第52-53页 |
| 5.2 无涂层基体 | 第53-54页 |
| 5.3 B_4C体系,锆含量26.5wt% | 第54-64页 |
| 5.3.1 质量烧蚀率及抗弯强度 | 第54-56页 |
| 5.3.2 B50Z26涂层试样烧蚀后物相分析 | 第56-57页 |
| 5.3.3 B50Z26涂层试样组织结构分析 | 第57-64页 |
| 5.4 B_4C体系,锆含量10wt% | 第64-68页 |
| 5.4.1 质量烧蚀率及抗弯强度 | 第64-66页 |
| 5.4.2 B50Z10涂层试样组织结构分析 | 第66-68页 |
| 5.5 B15S15Z26/G20Z26涂层 | 第68-72页 |
| 5.6 本章小结 | 第72-74页 |
| 第六章 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-81页 |
| 硕士阶段发表的论文及研究成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
