| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第一章 前言 | 第8-19页 |
| 1.1 超导理论 | 第8-11页 |
| 1.1.1 超导发展简介 | 第8-10页 |
| 1.1.2 超导技术的应用 | 第10-11页 |
| 1.2 约瑟夫森结 | 第11-15页 |
| 1.2.1 约瑟夫森效应 | 第11-13页 |
| 1.2.2 RCSJ模型 | 第13-14页 |
| 1.2.3 约瑟夫森效应的应用 | 第14-15页 |
| 1.3 太赫兹直接检测器 | 第15-19页 |
| 1.3.1 平面对数周期天线 | 第15-16页 |
| 1.3.2 超导微带线 | 第16-17页 |
| 1.3.3 检测器灵敏度 | 第17-18页 |
| 1.3.4 检测器带宽 | 第18-19页 |
| 第二章 隧道结制备工艺 | 第19-31页 |
| 2.1 清洗 | 第19-20页 |
| 2.1.1 湿法清洗 | 第19-20页 |
| 2.1.2 干法清洗 | 第20页 |
| 2.2 烘烤 | 第20-21页 |
| 2.3 光刻 | 第21-24页 |
| 2.3.1 光刻胶 | 第21-22页 |
| 2.3.2 光刻机 | 第22-24页 |
| 2.4 金属膜溅射 | 第24-28页 |
| 2.5 反应离子刻蚀RIE | 第28-29页 |
| 2.6 离子体增强化学气相沉积法PECVD | 第29-31页 |
| 第三章 Nb/Al-AlO_x/Nb超导隧道结的制备 | 第31-41页 |
| 3.1 工艺流程简介 | 第31-32页 |
| 3.2 划片 | 第32-33页 |
| 3.3 第一次光刻 | 第33-35页 |
| 3.4 磁控溅射 | 第35-36页 |
| 3.5 第二次光刻 | 第36-37页 |
| 3.6 反应离子刻蚀RIE | 第37-38页 |
| 3.7 绝缘层生长 | 第38-39页 |
| 3.8 第三次光刻 | 第39-40页 |
| 3.9 溅射上引线 | 第40-41页 |
| 第四章 超导隧道结测量与分析 | 第41-44页 |
| 4.1 测量原理 | 第41页 |
| 4.2 测量结果与分析 | 第41-44页 |
| 第五章 太赫兹检测器制备 | 第44-47页 |
| 5.1 检测器制备 | 第44-45页 |
| 5.2 简单测试 | 第45-47页 |
| 第六章 总结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 硕士期间研究成果(2012-2015) | 第52-53页 |