| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 VO_2的基本性质 | 第12-14页 |
| 1.2.1 VO_2的晶体结构 | 第12-14页 |
| 1.2.2 VO_2的能带结构 | 第14页 |
| 1.3 VO_2薄膜的相变特性 | 第14-17页 |
| 1.3.1 光学透射率的变化 | 第14-15页 |
| 1.3.2 相变的可逆性和超快性 | 第15-16页 |
| 1.3.3 诱导VO_2相变的方式 | 第16-17页 |
| 1.4 VO_2薄膜的应用领域 | 第17-21页 |
| 1.5 VO_2薄膜的制备方法 | 第21-26页 |
| 1.5.1 真空蒸镀法 | 第21-22页 |
| 1.5.2 溅射法 | 第22页 |
| 1.5.3 化学气相沉积法(CVD法) | 第22-23页 |
| 1.5.4 溶胶凝胶法 | 第23-25页 |
| 1.5.5 常见VO_2薄膜制备方法的比较 | 第25-26页 |
| 1.6 本课题研究内容及意义 | 第26页 |
| 1.7 本章小结 | 第26-27页 |
| 第二章 溶胶凝胶法制备纳米晶VO_2薄膜及其性能测试 | 第27-51页 |
| 2.1 VO_2纳米晶薄膜的制备工艺 | 第27-33页 |
| 2.1.1 原材料 | 第27-28页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第28-29页 |
| 2.1.3 单层VO_2薄膜的制备 | 第29-32页 |
| 2.1.3.1 乙酰丙酮钒前驱溶液的制备 | 第29页 |
| 2.1.3.2 Al_O_3衬底的清洗 | 第29-30页 |
| 2.1.3.3 Cr膜缓冲层的蒸镀 | 第30页 |
| 2.1.3.4 前驱溶液的匀胶 | 第30-31页 |
| 2.1.3.5 退火形成纳米晶VO_2薄膜 | 第31-32页 |
| 2.1.4 不同厚度纳米晶VO_2薄膜的制备 | 第32-33页 |
| 2.2 相关测试方法 | 第33-35页 |
| 2.3 纳米晶VO_2薄膜样品测试分析 | 第35-50页 |
| 2.3.1 缓冲层Cr膜对制备纳米晶VO_2薄膜的影响 | 第35-37页 |
| 2.3.2 匀胶转速对纳米晶VO_2薄膜的影响 | 第37-38页 |
| 2.3.3 退火时间对薄膜特性的影响 | 第38-42页 |
| 2.3.3.1 退火时间对薄膜表面及厚度的影响 | 第39-40页 |
| 2.3.3.2 退火时间对薄膜晶体结构的影响 | 第40-41页 |
| 2.3.3.3 退火时间对薄膜相变特性的影响 | 第41-42页 |
| 2.3.4 退火温度对薄膜特性的影响 | 第42-47页 |
| 2.3.4.1 退火温度对薄膜表面特性及厚度的影响 | 第42-45页 |
| 2.3.4.2 退火温度对薄膜晶体结构的影响 | 第45页 |
| 2.3.4.3 退火温度对薄膜相变特性的影响 | 第45-47页 |
| 2.3.5 不同厚度纳米晶VO_2薄膜性能分析 | 第47-50页 |
| 2.3.5.1 两次匀胶所制得VO_2薄膜性能分析 | 第47-48页 |
| 2.3.5.2 六次匀胶所制得VO_2薄膜的性能分析 | 第48-50页 |
| 2.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第三章 纳米晶VO_2薄膜的热致相变特性应用 | 第51-57页 |
| 3.1 样品的制备 | 第51-53页 |
| 3.1.1 银纳米立方体的制备 | 第51-53页 |
| 3.1.1.1 水热合成法制备银纳米立方体 | 第51-52页 |
| 3.1.1.2 Ag纳米立方体的表征 | 第52-53页 |
| 3.1.2 VO_2薄膜和银纳米立方体双功能传感器 | 第53页 |
| 3.2 VO_2薄膜和银纳米立方体双功能传感器功能测试 | 第53-56页 |
| 3.2.2 双功能传感器相关物理特性测试 | 第53-54页 |
| 3.2.3 双功能传感器探测荧光及拉曼信号 | 第54-56页 |
| 3.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 总结与展望 | 第57-59页 |
| 4.1 论文的主要工作 | 第57-58页 |
| 4.2 下一步工作计划 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第64页 |
