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半导体材料GaN,SiGe和ZrS2基低维体系的电子结构和光学性质研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-8页
第一章 绪论第12-32页
    1.1 半导体材料简介第12-14页
    1.2 低维半导体结构第14-17页
    1.3 闪锌矿和纤锌矿简介第17-19页
    1.4 二维过渡金属硫化物第19-23页
        1.4.1 二维过渡金属硫化物简介第19-22页
        1.4.2 二维材料的调制研究第22-23页
    1.5 本文研究材料介绍第23-29页
        1.5.1 GaN材料的性质和应用第23-26页
        1.5.2 SiGe材料的性质和应用第26-28页
        1.5.3 层状结构ZrS_2材料第28-29页
    1.6 主要研究内容第29-32页
第二章 理论基础第32-48页
    2.1 激子态第33页
    2.2 有效质量理论第33-36页
    2.3 变分法第36-37页
    2.4 密度泛函理论第37-42页
        2.4.1 绝热近似(Born-Oppenheimer approximation)第37-39页
        2.4.2 孔恩,沈吕九定理第39-40页
        2.4.3 局域密度近似和广义梯度近似第40-41页
        2.4.4 DFT+U方法第41-42页
    2.5 从头算计算使用的软件介绍第42-43页
    2.6 缺陷的形成能和跃迁能第43-48页
        2.6.1 半导体材料的掺杂第43-44页
        2.6.2 元素的化学势第44-46页
        2.6.3 缺陷的形成能和跃迁能级第46-48页
第三章 纤锌矿InGaN staggered量子阱中激子态和光学性质第48-64页
    3.1 引言第48-49页
    3.2 模型和计算细节第49-52页
    3.3 计算结果和讨论第52-62页
        3.3.1 对称结构InGaN staggered量子阱情形第52-58页
        3.3.2 非对称结构InGaN staggered量子阱情形第58-62页
    3.4 本章小结第62-64页
第四章 激光对直接带隙Ge/SiGe量子阱中激子态和光学性质影响第64-72页
    4.1 引言第64-65页
    4.2 模型和计算细节第65-66页
    4.3 结果与讨论第66-70页
        4.3.1 激光场对量子阱激子基态性质的影响第66-67页
        4.3.2 阱宽对量子阱激子基态性质的影响第67-70页
    4.4 本章小结第70-72页
第五章 V和VII族掺杂ZrS_2单层的电子结构第72-82页
    5.1 引言第72-73页
    5.2 计算方法第73页
    5.3 计算结果和讨论第73-80页
        5.3.1 本征ZrS_2单层的电子结构第73-74页
        5.3.2 V族原子掺杂ZrS_2单层的电子结构第74-75页
        5.3.3 V族原子掺杂ZrS_2单层的形成能和跃迁能级第75-77页
        5.3.4 VII族原子掺杂ZrS_2单层的电子结构第77-78页
        5.3.5 VII族原子掺杂ZrS_2单层的形成能和跃迁能级第78-80页
    5.4 本章小结第80-82页
第六章 二维ZrS_(2-2x)Se_(2x)合金的电子结构和光学性质的研究第82-88页
    6.1 引言第82-83页
    6.2 计算方法第83页
    6.3 结果与讨论第83-86页
        6.3.1 二维ZrS_(2-2x)Se_(2x)合金的形成能第83-84页
        6.3.2 二维ZrS_(2-2x)Se_(2x)合金的电子结构特征第84-85页
        6.3.3 二维ZrS_(2-2x)Se_(2x)合金的的光学性质第85-86页
    6.4 本章小结第86-88页
第七章 总结与展望第88-90页
参考文献第90-104页
致谢第104-106页
攻读博士学位期间的主要工作第106-107页
参加的学术会议交流第107-108页

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