| 摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-11页 |
| 引言 | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-57页 |
| 1.1 离子源 | 第14-38页 |
| 1.1.1 正离子源 | 第15-27页 |
| 1.1.1.1 弧放电等离子体源 | 第17-21页 |
| 1.1.1.2 高频等离子体放电源 | 第21-23页 |
| 1.1.1.3 真空弧源 | 第23-26页 |
| 1.1.1.4 表面电离离子源 | 第26-27页 |
| 1.1.2 负离子源 | 第27-38页 |
| 1.1.2.1 电荷交换形成负离子 | 第29-32页 |
| 1.1.2.2 电子轰击产生负离子 | 第32-34页 |
| 1.1.2.3 非热动力学平衡负表面离化 | 第34-38页 |
| 1.2 离子注入 | 第38-48页 |
| 1.2.1 离子束掺杂 | 第39-42页 |
| 1.2.2 离子束改性 | 第42-45页 |
| 1.2.3 离子束沉积 | 第45-48页 |
| 1.3 离子束分析 | 第48-55页 |
| 1.3.1 背散射能谱(BS) | 第49-51页 |
| 1.3.2 弹性反冲探测(ERD) | 第51-53页 |
| 1.3.3 核反应分析(NRA) | 第53-54页 |
| 1.3.4 粒子激发X射线/γ射线荧光谱(PIXE/PIGE) | 第54-55页 |
| 1.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 第二章 团簇离子及其在制备二维材料中的应用 | 第57-74页 |
| 2.1 铯溅射负离子源 | 第57-60页 |
| 2.1.1 铯溅射负离子源的结构 | 第57-58页 |
| 2.1.2 离子束流强度优化 | 第58-60页 |
| 2.2 团簇离子束的引出 | 第60-65页 |
| 2.3 碳团簇离子注入制备石墨烯 | 第65-73页 |
| 2.3.1 团簇与固体相互作用 | 第65-67页 |
| 2.3.2 团簇离子束制备石墨烯 | 第67-73页 |
| 2.4 本章小结 | 第73-74页 |
| 第三章 卢瑟福背散射分析杂质及多层膜结构 | 第74-90页 |
| 3.1 卢瑟福背散射分析(RBS)中的基本参数 | 第74-77页 |
| 3.1.1 运动学因子 | 第74-76页 |
| 3.1.2 散射截面σ | 第76-77页 |
| 3.2 RBS测量注入均匀性 | 第77-83页 |
| 3.3 RBS测量多层膜的调制周期 | 第83-88页 |
| 3.4 本章小结 | 第88-90页 |
| 第四章 非卢瑟福背散射分析轻元素 | 第90-100页 |
| 4.1 非卢瑟福背散射(Non-RBS)截面 | 第90-91页 |
| 4.2 Non-RBS测量分析红宝石中的杂质 | 第91-94页 |
| 4.3 Non-RBS测量碳注入ZnOS外延膜 | 第94-98页 |
| 4.4 本章小结 | 第98-100页 |
| 第五章 总结与展望 | 第100-103页 |
| 5.1 总结 | 第100-101页 |
| 5.2 展望 | 第101-103页 |
| 参考文献 | 第103-119页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第119-121页 |
| 致谢 | 第121-122页 |