辐射聚合法制备噻吩类分子印迹聚合物及印迹共混膜
| 学位论文的主要创新点 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-28页 |
| 1.1 油品中脱硫技术概述 | 第8-11页 |
| 1.1.1 油品中硫化物类型 | 第9-10页 |
| 1.1.2 硫化物的脱硫方法 | 第10-11页 |
| 1.2 分子印迹技术概论 | 第11-21页 |
| 1.2.1 分子印迹原理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 分子印迹合成方法分类 | 第13-16页 |
| 1.2.3 分子印迹技术特征 | 第16-17页 |
| 1.2.4 分子印迹制备方法 | 第17-21页 |
| 1.3 分子印迹聚合物的应用 | 第21-24页 |
| 1.3.1 传感器 | 第21页 |
| 1.3.2 固相萃取 | 第21-22页 |
| 1.3.3 模拟人工抗体和受体 | 第22页 |
| 1.3.4 聚合物膜材料 | 第22-24页 |
| 1.4 具有特定功能的分子印迹聚合物 | 第24-26页 |
| 1.4.1 温度响应型MIPs | 第24-25页 |
| 1.4.2 磁响应型MIPs | 第25-26页 |
| 1.5 本课题研究的背景和意义 | 第26-28页 |
| 第二章 辐射聚合法制备中空双模板分子印迹微球 | 第28-42页 |
| 2.1 前言 | 第28页 |
| 2.2 实验部分 | 第28-32页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第29页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第29-30页 |
| 2.2.3 二氧化硅的改性 | 第30页 |
| 2.2.4 印迹聚合物的合成 | 第30-31页 |
| 2.2.5 中空印迹聚合物的合成 | 第31页 |
| 2.2.6 紫外光谱实验 | 第31页 |
| 2.2.7 红外光谱实验 | 第31页 |
| 2.2.8 热重分析 | 第31页 |
| 2.2.9 静态氮吸附实验 | 第31页 |
| 2.2.10 印迹聚合物的吸附行为研究 | 第31-32页 |
| 2.2.11 选择吸附实验 | 第32页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第32-41页 |
| 2.3.1 紫外光谱表征 | 第32-33页 |
| 2.3.2 红外光谱表征 | 第33-35页 |
| 2.3.3 扫描及透射电镜表征 | 第35-36页 |
| 2.3.4 热重分析 | 第36-37页 |
| 2.3.5 静态氮吸附表征 | 第37-38页 |
| 2.3.6 印迹聚合物的吸附动力学 | 第38-40页 |
| 2.3.7 选择性吸附研究 | 第40-41页 |
| 2.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 噻吩类分子印迹共混膜的制备及表征 | 第42-52页 |
| 3.1 前言 | 第42页 |
| 3.2 实验部分 | 第42-46页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第42-43页 |
| 3.2.2 实验主要仪器设备 | 第43页 |
| 3.2.3 分子印迹聚合物膜的合成过程 | 第43-44页 |
| 3.2.4 扫描电子显微镜测定 | 第44页 |
| 3.2.5 膜通量的计算 | 第44-45页 |
| 3.2.6 膜孔隙率的测量 | 第45页 |
| 3.2.7 膜孔径的测定 | 第45页 |
| 3.2.8 分子印迹共混膜吸附性能 | 第45-46页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第46-51页 |
| 3.3.1 成膜材料及溶剂的选取 | 第46-47页 |
| 3.3.2 不同聚砜浓度对膜结构及性能的影响 | 第47-48页 |
| 3.3.3 凝固浴温度对膜性能的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.4 共混膜表面形态特征 | 第49页 |
| 3.3.5 分子印迹共混膜的吸附行为研究 | 第49-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 结论 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-62页 |
| 发表论文和参加科研情况 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
