高压电子铝箔腐蚀机理及计算机模拟仿真研究
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| 英文摘要 | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 铝电解电容器简介 | 第11-12页 |
| 1.2 高压阳极箔腐蚀工艺研究现状 | 第12-16页 |
| 1.2.1 腐蚀技术 | 第12-13页 |
| 1.2.2 腐蚀理论 | 第13-15页 |
| 1.2.3 高压阳极箔腐蚀工艺 | 第15-16页 |
| 1.3 计算机模拟分析 | 第16-17页 |
| 1.4 研究内容及技术路线 | 第17-18页 |
| 1.4.1 研究内容 | 第17页 |
| 1.4.2 技术路线 | 第17-18页 |
| 1.5 课题背景及意义 | 第18-19页 |
| 2 计算机模拟理论方法 | 第19-25页 |
| 2.1 晶体结构 | 第19-20页 |
| 2.2 理论基础 | 第20-21页 |
| 2.2.1 Schr?dinger方程 | 第20-21页 |
| 2.2.2 Born-Oppenheimer近似 | 第21页 |
| 2.3 密度泛函理论简介 | 第21-24页 |
| 2.4 价电子结构 | 第24-25页 |
| 3 高压电子铝箔腐蚀工艺的研究 | 第25-34页 |
| 3.1 试验材料及仪器 | 第25页 |
| 3.2 试验步骤 | 第25-28页 |
| 3.3 铝箔表面腐蚀孔生长过程 | 第28-33页 |
| 3.3.1 隧道孔的形成 | 第29-31页 |
| 3.3.2 腐蚀量与扩面效果关系 | 第31-33页 |
| 3.4 小结 | 第33-34页 |
| 4 预处理工艺对腐蚀行为的影响 | 第34-43页 |
| 4.1 酸碱预处理对铝箔表面蚀孔的影响 | 第34-41页 |
| 4.1.1 试验 | 第35页 |
| 4.1.2 铝箔性能分析 | 第35-36页 |
| 4.1.3 表面形貌分析 | 第36-38页 |
| 4.1.4 极化曲线分析 | 第38-40页 |
| 4.1.5 预处理腐蚀机理分析 | 第40-41页 |
| 4.2 小结 | 第41-43页 |
| 5 高压铝箔腐蚀晶面分析 | 第43-56页 |
| 5.1 Materials Studio软件简介 | 第43-44页 |
| 5.2 铝箔腐蚀晶面简介 | 第44-45页 |
| 5.3 计算机模拟仿真运算 | 第45-49页 |
| 5.3.1 截断能的确定 | 第46-47页 |
| 5.3.2 K值的确定 | 第47-48页 |
| 5.3.3 铝箔不同晶面的模拟计算 | 第48-49页 |
| 5.4 计算机模拟仿真分析 | 第49-55页 |
| 5.4.1 不同晶面的几何学分析 | 第49-50页 |
| 5.4.2 不同晶面的能量分析 | 第50-51页 |
| 5.4.3 铝箔表面电子密度及静电势分析 | 第51-55页 |
| 5.5 小结 | 第55-56页 |
| 6 结论与展望 | 第56-58页 |
| 6.1 结论 | 第56-57页 |
| 6.2 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 研究生期间发表论文 | 第66页 |
