| 摘要 | 第1-5页 |
| abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-13页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·光子晶体发展现状 | 第10-11页 |
| ·本文主要工作 | 第11-13页 |
| 第二章 光子晶体概念及特性 | 第13-24页 |
| ·光子晶体概述 | 第13页 |
| ·光子晶体结构 | 第13-14页 |
| ·光子晶体特性 | 第14-16页 |
| ·光子晶体的光子带隙 | 第14-15页 |
| ·光子晶体的光子局域化 | 第15-16页 |
| ·光子晶体的制备 | 第16-19页 |
| ·机械加工法 | 第16-17页 |
| ·半导体微制造法 | 第17页 |
| ·自组装法 | 第17-18页 |
| ·模板法 | 第18页 |
| ·层层叠加法 | 第18-19页 |
| ·激光全息光刻法 | 第19页 |
| ·光子晶体的应用 | 第19-23页 |
| ·光子晶体光纤 | 第20-21页 |
| ·光子晶体波导 | 第21-22页 |
| ·滤波器 | 第22页 |
| ·集成光路 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 光子晶体的研究方法 | 第24-32页 |
| ·平面波法 | 第24-26页 |
| ·传输矩阵法 | 第26-27页 |
| ·有限时域差分法 | 第27-29页 |
| ·多重散射法 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第四章 异质单周期内对称一维光子晶体传光特性 | 第32-38页 |
| ·异质单周期内对称光子晶体模型 | 第32页 |
| ·异质单周期内对称光子晶体透射谱线 | 第32-33页 |
| ·多种因素对异质单周期内对称光子晶体透射谱线的影响 | 第33-36页 |
| ·入射角对透射谱线的影响 | 第33-34页 |
| ·介质层周期数对透射谱线的影响 | 第34-35页 |
| ·介质层厚度比对透射谱线的影响 | 第35-36页 |
| ·本章小节 | 第36-38页 |
| 第五章 含有缺陷层光子晶体的透射谱研究 | 第38-46页 |
| ·含缺陷层光子晶体的理论模型 | 第38-39页 |
| ·数据模拟分析 | 第39-45页 |
| ·缺陷模透射峰随缺陷位置的变化 | 第39-40页 |
| ·缺陷模透射峰随缺陷厚度的变化 | 第40-42页 |
| ·缺陷模透射峰随入射角的变化 | 第42-43页 |
| ·缺陷模透射峰随光子晶体周期数的变化 | 第43-44页 |
| ·缺陷模透射峰随缺陷模材料的变化 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第六章 总结与展望 | 第46-48页 |
| ·总结 | 第46-47页 |
| ·创新点与不足 | 第47页 |
| ·展望 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |