摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-12页 |
第1章 绪论 | 第12-50页 |
·引言 | 第12-13页 |
·挥发性有机化合物概述 | 第13-18页 |
·挥发性有机化合物来源及危害 | 第13-14页 |
·VOCs污染控制方法 | 第14-18页 |
·吸附技术 | 第15页 |
·吸收技术 | 第15页 |
·冷凝技术 | 第15-16页 |
·膜分离技术 | 第16页 |
·燃烧技术 | 第16页 |
·生物降解技术 | 第16-17页 |
·等离子体技术 | 第17页 |
·光催化技术 | 第17-18页 |
·光催化概述 | 第18-26页 |
·光催化原理 | 第18-20页 |
·光催化技术的应用 | 第20-21页 |
·影响TiO_2光催化活性的因素 | 第21-23页 |
·晶相、晶面和晶格缺陷的影响 | 第21-22页 |
·粒径和比表面积的影响 | 第22页 |
·表面羟基的影响 | 第22页 |
·反应条件的影响 | 第22-23页 |
·TiO_2的改性 | 第23-26页 |
·贵金属沉积 | 第23页 |
·离子掺杂 | 第23-24页 |
·半导体复合 | 第24页 |
·表面光敏化 | 第24页 |
·酸化 | 第24-26页 |
·光催化降解VOCs的研究进展 | 第26-38页 |
·光催化降解VOCs概述 | 第26-32页 |
·光催化降解甲苯的红外光谱研究 | 第32-38页 |
·红外光谱技术的发展 | 第33-34页 |
·光催化降解甲苯的原位傅里叶变换红外光谱研究 | 第34-38页 |
·本论文主要内容和研究意义 | 第38-39页 |
参考文献 | 第39-50页 |
第2章 TiO_2光催化降解甲苯的原位远红外光谱研究 | 第50-76页 |
·引言 | 第50-52页 |
·实验部分 | 第52-60页 |
·主要试剂与仪器 | 第52-53页 |
·TiO_2的制备 | 第53页 |
·原位远红外光谱研究装置的搭建与实验 | 第53-56页 |
·原位远红外光谱研究装置的搭建 | 第53-55页 |
·原位远红外光谱实验 | 第55-56页 |
·理论计算 | 第56-60页 |
·Materials Studio软件简介 | 第56-57页 |
·模型的建立及计算参数的选择 | 第57-60页 |
·结果与讨论 | 第60-71页 |
·甲苯的吸附 | 第60-67页 |
·甲苯的光催化降解 | 第67-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-76页 |
第3章 酸/碱气氛修饰对TiO_2光催化降解甲苯的作用机理研究 | 第76-114页 |
·引言 | 第76-78页 |
·实验部分 | 第78-84页 |
·主要试剂与仪器 | 第78-79页 |
·TiO_2及H_2S/NH_3修饰TiO_2的制备 | 第79页 |
·TiO_2及H_2S/NH_3修饰TiO_2的表征 | 第79-80页 |
·TiO_2及H_2S/NH_3修饰TiO_2的活性评价 | 第80-81页 |
·TiO_2及H_2S/NH_3修饰TiO_2降解甲苯的原位DRIFTS实验 | 第81-82页 |
·原位DRIFTS装置的搭建 | 第81-82页 |
·原位DRIFTS实验 | 第82页 |
·理论计算 | 第82-84页 |
·结果与讨论 | 第84-106页 |
·XRD分析 | 第84-85页 |
·BET分析 | 第85-86页 |
·UV-vis DRS分析 | 第86页 |
·XPS分析 | 第86-88页 |
·TGA分析 | 第88-89页 |
·EPR分析 | 第89-91页 |
·TiO_2及H_2S/NH_3修饰TiO_2的光催化活性 | 第91-93页 |
·原位DRIFTS结果分析 | 第93-97页 |
·理论计算结果分析 | 第97-99页 |
·H_2S/NH_3修饰TiO_2对甲苯吸附的作用机理 | 第99-103页 |
·H_2S/NH_3修饰TiO_2对甲苯降解的作用机理 | 第103-106页 |
·本章小结 | 第106-107页 |
参考文献 | 第107-114页 |
第4章 结论与展望 | 第114-118页 |
·结论 | 第114-116页 |
·展望 | 第116-118页 |
在读期间发表的学术论文 | 第118-120页 |
致谢 | 第120页 |