摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第1章 绪论 | 第12-22页 |
·温差发电的发展历程和研究背景 | 第12-14页 |
·热电效应 | 第14-16页 |
·塞贝克效应 | 第14-15页 |
·帕尔贴效应 | 第15页 |
·汤姆逊效应 | 第15-16页 |
·热电材料和器件的性能表征 | 第16-18页 |
·锑基热电薄膜及薄膜温差电器件在国内外研究现状 | 第18-21页 |
·本文的研究内容与目的 | 第21-22页 |
第2章 薄膜制备与性能表征方法 | 第22-29页 |
·磁控溅射镀膜法 | 第22-23页 |
·热电薄膜的表征方法 | 第23-29页 |
·塞贝克系数测量仪 | 第23-24页 |
·四探针测试系统 | 第24-26页 |
·霍尔效应测量仪 | 第26页 |
·X射线衍射仪 | 第26-27页 |
·扫描电子显微镜和能量色散谱仪 | 第27-28页 |
·温差电池电学性能测量系统 | 第28-29页 |
第3章 射频磁控溅射法制备P型锑化锌热电薄膜 | 第29-54页 |
·退火温度对射频磁控溅射制备的锑化锌热电薄膜的影响 | 第29-35页 |
·制备方法与过程 | 第29页 |
·退火温度对锑化锌热电薄膜结构和性能的影响 | 第29-35页 |
·小结 | 第35页 |
·Ti掺杂对锑化锌热电薄膜结构和性能的影响 | 第35-43页 |
·共溅射Ti掺杂对薄膜结构和性能的影响 | 第35-39页 |
·制备方法与过程 | 第35页 |
·Ti掺杂量对锑化锌薄膜结构和性能的影响 | 第35-39页 |
·Ti预制层掺杂对薄膜结构和性能的影响 | 第39-43页 |
·制备方法与过程 | 第39-40页 |
·Ti预制层厚度对锑化锌薄膜结构和性能的影响 .. 29 | 第40-43页 |
·小结 | 第43页 |
·In掺杂对锑化锌热电薄膜结构和性能的影响 | 第43-53页 |
·共溅射In掺杂对薄膜结构和性能的影响 | 第43-48页 |
·制备方法与过程 | 第43-44页 |
·In掺杂量对锑化锌薄膜结构和性能的影响 | 第44-48页 |
·In预制层掺杂对薄膜结构和性能的影响 | 第48-53页 |
·制备方法与过程 | 第48-49页 |
·In预制层厚度对锑化锌薄膜结构和性能的影响 .. 38 | 第49-53页 |
·小结 | 第53-54页 |
第4章 射频磁控溅射法制备N型锑化钴热电薄膜 | 第54-59页 |
·概述 | 第54页 |
·共溅射In掺杂法制备锑化钴薄膜的方法与过程 | 第54页 |
·In掺杂量对锑化钴热电薄膜结构和性能的影响 | 第54-59页 |
第5章 锑基薄膜温差电池的制备 | 第59-68页 |
·不同电极材料对温差电池的影响 | 第59-61页 |
·电极保护层和过渡层对电池输出特性和热稳定性的影响 | 第61-64页 |
·薄膜温差电池的串联输出特性 | 第64-66页 |
·小结 | 第66-68页 |
第6章 总结 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
攻读硕士学位期间的研究成果 | 第77-78页 |