硅胶表面修饰分子印迹材料的制备与性能考察
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-27页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·分子印迹技术 | 第10-22页 |
| ·分子印迹技术的发展历史 | 第10-11页 |
| ·分子印迹技术的基本原理 | 第11-13页 |
| ·分子印迹聚合物的构成体系 | 第13-17页 |
| ·分子印迹技术的分类 | 第17-18页 |
| ·分子印迹聚合物的制备方法 | 第18-20页 |
| ·分子印迹技术的应用 | 第20-22页 |
| ·基于硅胶表面的分子印迹技术 | 第22-26页 |
| ·硅胶表面分子印迹聚合物的制备方法 | 第23-24页 |
| ·硅胶表面分子印迹聚合物的应用 | 第24-25页 |
| ·硅胶表面分子印迹技术存在的主要问题 | 第25-26页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第26-27页 |
| 第二章 分子印迹实验条件的筛选 | 第27-43页 |
| ·仪器与试剂 | 第27-29页 |
| ·实验用仪器与设备 | 第27页 |
| ·实验试剂 | 第27-29页 |
| ·实验部分 | 第29-38页 |
| ·化学试剂的预处理 | 第29-30页 |
| ·反应溶剂的筛选 | 第30页 |
| ·罗丹明B溶液的紫外吸收 | 第30-32页 |
| ·以乙腈为溶剂的功能单体的筛选 | 第32-36页 |
| ·功能单体和模板分子配比的研究 | 第36-38页 |
| ·硅胶表面印迹聚合物的制备条件考察 | 第38-41页 |
| ·硅胶活化条件的考察 | 第38页 |
| ·模板分子洗脱条件的考察 | 第38-40页 |
| ·改性硅胶的用量对分子印迹聚合物产率的影响 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第三章 罗丹明B分子印迹聚合物的制备 | 第43-59页 |
| ·实验装置 | 第43页 |
| ·聚合物的制备 | 第43-44页 |
| ·活化硅胶 | 第43页 |
| ·硅胶的表面修饰 | 第43页 |
| ·分子印迹聚合物制备 | 第43-44页 |
| ·印迹聚合物的结构表征 | 第44页 |
| ·红外光谱测试(FT-IR) | 第44页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第44页 |
| ·印迹聚合物吸附性能测试 | 第44-47页 |
| ·吸附动力学 | 第44-45页 |
| ·饱和吸附性能 | 第45页 |
| ·等温吸附性能 | 第45页 |
| ·Scatchard方程解析 | 第45-46页 |
| ·吸附选择性 | 第46页 |
| ·pH值对分子印迹聚合物吸附性能的影响 | 第46页 |
| ·温度对分子印迹聚合物吸附性能的影响 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-57页 |
| ·聚合物的制备原理 | 第47-48页 |
| ·红外光谱测试(FT-IR) | 第48-49页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第49-51页 |
| ·吸附动力学 | 第51页 |
| ·饱和吸附性能 | 第51-52页 |
| ·等温吸附性能 | 第52-53页 |
| ·Scatchard方程解析 | 第53-54页 |
| ·吸附选择性 | 第54-55页 |
| ·重复利用率 | 第55-56页 |
| ·pH值对聚合物吸附性能的影响 | 第56-57页 |
| ·温度对聚合物吸附性能的影响 | 第57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 分子印迹固相萃取实验 | 第59-63页 |
| ·分子印迹固相萃取柱的制备 | 第59页 |
| ·分子印迹固相萃取柱性能评价 | 第59页 |
| ·辣椒粉末中罗丹明B的固相萃取 | 第59-60页 |
| ·辣椒粉末的固相萃取 | 第59-60页 |
| ·重复利用率 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-62页 |
| ·MISPE的性能评价 | 第60-61页 |
| ·辣椒粉末的固相萃取 | 第61页 |
| ·重复利用率 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第71-72页 |
