非均匀磁场分布的磁流变抛光工艺研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| ·课题来源及意义 | 第8-9页 |
| ·课题来源 | 第8页 |
| ·课题的研究意义 | 第8-9页 |
| ·超光滑表面抛光技术 | 第9页 |
| ·磁流变抛光技术 | 第9-13页 |
| ·磁流变抛光技术简介 | 第10-11页 |
| ·磁流变抛光技术演变 | 第11-12页 |
| ·环带式磁流变抛光技术 | 第12-13页 |
| ·本章小结 | 第13-14页 |
| ·本章小结 | 第13页 |
| ·本论文内容安排 | 第13-14页 |
| 2 均匀磁场环带磁流变抛光面型缺陷 | 第14-24页 |
| ·环带磁流变抛光的均匀磁场 | 第14-18页 |
| ·环带磁流变抛光均匀磁场结构 | 第14-15页 |
| ·磁场测量装置 | 第15页 |
| ·环带磁流变抛光均匀磁场分布测量 | 第15-18页 |
| ·均匀磁场磁流变抛光面型缺陷 | 第18-22页 |
| ·表面测量仪器 | 第18-19页 |
| ·均匀磁场磁流变抛光面型测量 | 第19-22页 |
| ·本章小结 | 第22-24页 |
| 3 非均匀磁场磁流变抛光磁场分布 | 第24-36页 |
| ·非均匀磁场的提出 | 第24-25页 |
| ·非均匀磁场产生结构 | 第25-30页 |
| ·三磁极磁场结构 | 第25-26页 |
| ·改进型三磁极磁场结构 | 第26-27页 |
| ·主辅磁极结构 | 第27-30页 |
| ·非均匀磁场分布 | 第30-35页 |
| ·三磁极结构磁场分布 | 第30-32页 |
| ·三磁极改进结构磁场分布 | 第32-34页 |
| ·主辅磁极结构磁场分布 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 4 非均匀磁场磁流变抛光实验 | 第36-52页 |
| ·工件的精磨 | 第36-38页 |
| ·JP350G高速精磨抛光机 | 第36-37页 |
| ·工件精磨结果 | 第37-38页 |
| ·非均匀磁场磁流变抛光去除效果 | 第38-42页 |
| ·三磁极结构非均匀磁场磁流变抛光去除 | 第38-40页 |
| ·改进型三磁极结构非均匀磁场磁流变抛光去除 | 第40-41页 |
| ·主辅磁极结构非均匀磁场磁流变抛光去除 | 第41-42页 |
| ·非均匀磁场磁流变抛光的工艺实验 | 第42-50页 |
| ·正交实验的因素水平选择 | 第42-44页 |
| ·正交实验设计 | 第44-46页 |
| ·正交实验结果 | 第46-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 5 结论 | 第52-54页 |
| ·总结 | 第52-53页 |
| ·展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
