| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·研究背景 | 第10页 |
| ·活性艳蓝染料废水 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化氧化法处理染料废水 | 第11页 |
| ·ZnO 半导体光催化剂简介 | 第11-15页 |
| ·ZnO 半导体光催化剂 | 第11页 |
| ·ZnO 光催化机理 | 第11-12页 |
| ·ZnO 半导体催化剂的改性 | 第12-13页 |
| ·表面金属沉积 | 第12页 |
| ·金属离子掺杂 | 第12页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第12页 |
| ·复合半导体 | 第12-13页 |
| ·光敏化 | 第13页 |
| ·ZnO 半导体催化剂的制备 | 第13-15页 |
| ·机械法 | 第13页 |
| ·气相法 | 第13-14页 |
| ·液相法 | 第14页 |
| ·固相法 | 第14-15页 |
| ·本文研究方向 | 第15-16页 |
| 第二章 实验试剂、仪器与测试表征方法 | 第16-22页 |
| ·主要实验试剂 | 第16页 |
| ·实验仪器 | 第16-17页 |
| ·实验装置 | 第17页 |
| ·催化活性的评价 | 第17-19页 |
| ·模拟废水的制备 | 第17-18页 |
| ·模拟废水脱色率测定 | 第18页 |
| ·模拟废水脱色率测定过程 | 第18-19页 |
| ·表征方法 | 第19-22页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第19页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第19页 |
| ·紫外-可见吸收光谱（UV-Vis） | 第19页 |
| ·光电化学性能分析（Photocurrent） | 第19-20页 |
| ·红外光谱（IR） | 第20页 |
| ·光致发射光谱（PL） | 第20页 |
| ·X 射线能量色散（EDX） | 第20页 |
| ·X 射线电子能谱（XPS） | 第20页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第20-21页 |
| ·磁性分析（VSM） | 第21-22页 |
| 第三章 ZnO 光催化剂的制备及其光催化性能 | 第22-29页 |
| ·前言 | 第22页 |
| ·ZnO 光催化剂的制备 | 第22页 |
| ·样品表征 | 第22-27页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第22-23页 |
| ·扫描电子显微镜分析（SEM） | 第23-24页 |
| ·紫外可见吸收光谱分析（UV-Vis） | 第24-25页 |
| ·光致发射光谱分析（PL） | 第25-26页 |
| ·红外光谱分析（IR） | 第26页 |
| ·光电化学性能分析（Photocurrent） | 第26-27页 |
| ·催化剂对活性艳蓝的光催化氧化 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第四章 ZnO/Ni 复合光催化剂的制备及其光催化性能 | 第29-42页 |
| ·前言 | 第29页 |
| ·ZnO/Ni 复合光催化剂的制备 | 第29页 |
| ·样品表征 | 第29-39页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第29-30页 |
| ·扫描电子显微镜分析（SEM） | 第30-32页 |
| ·生长过程动力学分析 | 第32-33页 |
| ·紫外-可见吸收光谱分析（UV-Vis） | 第33-34页 |
| ·光致发光光谱分析（PL） | 第34页 |
| ·红外光谱分析（IR） | 第34-35页 |
| ·透射电子显微镜分析（TEM） | 第35-36页 |
| ·X 射线能量色散分析（EDX） | 第36页 |
| ·X 射线光电子能谱分析（XPS） | 第36-37页 |
| ·光电化学性能分析（Photocurrent） | 第37-38页 |
| ·光催化剂磁性能分析 | 第38-39页 |
| ·光催化剂磁性回收测试 | 第39页 |
| ·催化剂对活性艳蓝的光催化氧化 | 第39-41页 |
| ·光催化剂降解测试 | 第39-40页 |
| ·光催化剂循环降解回收测试 | 第40-41页 |
| ·循环降解回收光催化剂 X 射线衍射分析（XRD） | 第41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 ZnO/Ni/CQDs 复合光催化剂的制备及其光催化性能 | 第42-59页 |
| ·前言 | 第42页 |
| ·ZnO/Ni/CQDs 复合光催化剂的制备 | 第42-43页 |
| ·碳量子点（CQDs）的制备 | 第42页 |
| ·ZnO/Ni 前驱物的制备 | 第42页 |
| ·ZnO/Ni/QDS 复合光催化剂的合成 | 第42-43页 |
| ·样品表征 | 第43-55页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第43-45页 |
| ·扫描电子显微镜分析（SEM） | 第45-46页 |
| ·CQDs 透射电子显微镜分析（TEM） | 第46-47页 |
| ·紫外-可见吸收光谱分析（UV-Vis） | 第47-49页 |
| ·光致发光光谱分析（PL） | 第49-50页 |
| ·CQDs 荧光现象 | 第50-51页 |
| ·红外光谱分析（IR） | 第51-52页 |
| ·光电化学性能分析（Photocurrent） | 第52-54页 |
| ·X 射线能量色散谱分析（EDX） | 第54-55页 |
| ·催化剂对活性艳蓝的光催化氧化 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第六章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 附录 | 第67页 |
