| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-13页 |
| 1 绪论 | 第13-18页 |
| ·引言 | 第13-15页 |
| ·VO_2的性质与结构 | 第15-17页 |
| ·VO_2的性质 | 第15-16页 |
| ·VO_2的结构 | 第16-17页 |
| ·论文研究的目的及意义 | 第17-18页 |
| 2 二氧化钒薄膜的制备与掺杂 | 第18-23页 |
| ·VO_2薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| ·真空蒸发法 | 第18页 |
| ·磁控溅射法 | 第18-19页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第19页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第19-20页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第20页 |
| ·有机溶胶-凝胶方法 | 第20页 |
| ·无机溶胶-凝胶方法 | 第20页 |
| ·掺杂VO_2薄膜的制备方法 | 第20-23页 |
| ·掺杂原理 | 第20-21页 |
| ·掺杂VO_2薄膜方法 | 第21-23页 |
| ·真空蒸发法 | 第21页 |
| ·磁控溅射法 | 第21-22页 |
| ·化学气相沉积法 | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第22-23页 |
| 3 无机溶胶-凝胶法制备VO_2薄膜工艺及测试方法 | 第23-49页 |
| ·实验原料及设备 | 第23-24页 |
| ·实验原料 | 第23页 |
| ·实验设备 | 第23-24页 |
| ·薄膜表征方法 | 第24-26页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第24-25页 |
| ·红外可见分光光谱仪 | 第25页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(SEM) | 第25-26页 |
| ·实验原理 | 第26-27页 |
| ·制备V_2O_5溶胶 | 第27页 |
| ·制备VO_2薄膜 | 第27-33页 |
| ·玻璃片的清洗 | 第27-28页 |
| ·制备V_2O_5薄膜 | 第28-33页 |
| ·V_2O_5溶胶制备薄膜 | 第28页 |
| ·V_2O_5溶胶提拉法镀膜 | 第28-30页 |
| ·V_2O_5溶胶旋涂法镀膜 | 第30-31页 |
| ·V_2O_5溶胶与无水乙醇混合制备薄膜 | 第31-32页 |
| ·热处理制备VO_2薄膜 | 第32-33页 |
| ·VO_2薄膜的表征与分析 | 第33-48页 |
| ·提拉次数对薄膜的性能影响 | 第33-39页 |
| ·提拉次数对薄膜光学性能的影响 | 第33-34页 |
| ·提拉次数对VO_2薄膜组成的影响 | 第34-36页 |
| ·提拉次数对薄膜厚度的影响 | 第36-37页 |
| ·提拉次数对薄膜表面形貌的影响 | 第37-39页 |
| ·热处理温度以及时间对VO_2薄膜的影响 | 第39-48页 |
| ·实验过程的制定 | 第39页 |
| ·热处理温度及时间对薄膜光学性能的影响 | 第39-40页 |
| ·热处理温度及时间对薄膜物质组分的影响 | 第40-42页 |
| ·热处理温度及时间对薄膜表面形貌的影响 | 第42-48页 |
| ·本章总结 | 第48-49页 |
| 4 钨掺杂VO_2薄膜的制备及表征 | 第49-60页 |
| ·制备钨掺杂VO_2薄膜 | 第49-50页 |
| ·不同掺杂方式的实验过程 | 第49-50页 |
| ·不同掺杂原料的实验过程 | 第50页 |
| ·薄膜表征及分析 | 第50-58页 |
| ·掺杂方式对薄膜光学性能的影响 | 第50-54页 |
| ·混合掺杂钨酸铵对VO_2薄膜透过率的影响 | 第50-51页 |
| ·共熔融掺杂钨酸铵对VO_2薄膜透过率的影响 | 第51-52页 |
| ·共熔融掺杂氯化钨对VO_2薄膜透过率的影响 | 第52-53页 |
| ·本节总结 | 第53-54页 |
| ·掺杂对薄膜组分的影响 | 第54-57页 |
| ·钨酸铵混合掺杂制备薄膜分析 | 第54-55页 |
| ·钨酸铵共熔融掺杂制备薄膜分析 | 第55页 |
| ·氯化钨共熔融掺杂制备薄膜分析 | 第55-56页 |
| ·本节总结 | 第56-57页 |
| ·掺杂对薄膜形貌的影响 | 第57-58页 |
| ·混合掺杂钨酸铵对薄膜的形貌影响 | 第57页 |
| ·共熔融掺杂钨酸铵对薄膜的形貌影响 | 第57-58页 |
| ·共熔融掺杂氯化钨对薄膜的形貌影响 | 第58页 |
| ·本节总结 | 第58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 发表的论文 | 第64页 |