| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第 1 章 绪论 | 第9-27页 |
| ·氮化硅的基本性质、晶体结构与用途 | 第9-12页 |
| ·氮化硅的性质与性能 | 第9-11页 |
| ·氮化硅的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·氮化硅的用途 | 第12页 |
| ·氮化硅的制备方法及其优缺点 | 第12-17页 |
| ·硅粉直接氮化法 | 第13-14页 |
| ·碳热还原二氧化硅法 | 第14页 |
| ·气相反应法 | 第14-15页 |
| ·液相法 | 第15-16页 |
| ·高频等离子体化学气相淀积法 | 第16页 |
| ·激光诱导反应法 | 第16-17页 |
| ·硅粉直接氮化法制备氮化硅的机理和动力学 | 第17-22页 |
| ·非流化条件下硅粉直接氮化法生产氮化硅的机理和动力学 | 第17-21页 |
| ·流化条件下硅粉直接氮化法生产氮化硅的机理和动力学 | 第21-22页 |
| ·不同工艺参数的变化对硅粉直接氮化制备氮化硅的影响 | 第22-24页 |
| ·非流化条件下不同工艺参数的变化对硅粉直接氮化制备氮化硅的影响 | 第23-24页 |
| ·流化条件下不同工艺参数的变化对硅粉直接氮化制备氮化硅的影响 | 第24页 |
| ·硅粉在流化床反应器中直接氮化制备氮化硅粉体 | 第24-26页 |
| ·研究内容 | 第26-27页 |
| 第 2 章 高温流化床反应装置与试验流程 | 第27-36页 |
| ·高温实验装置的改造和设计 | 第27-30页 |
| ·高温实验装置的改造 | 第27-29页 |
| ·一级预热器 | 第29页 |
| ·喂料装置 | 第29页 |
| ·取样器 | 第29-30页 |
| ·流量计的选型、标定，预热炉、高温炉的升温能力 | 第30-34页 |
| ·流量计的选型及标定 | 第30-32页 |
| ·预热器及高温流化床反应器的升温性能 | 第32-34页 |
| ·整个反应装置气路的清灰 | 第34页 |
| ·硅粉原料的基本参数 | 第34-35页 |
| ·硅粉的元素分析 | 第34-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第 3 章 高温流化床反应器阻力特性与氮化硅合成的研究 | 第36-53页 |
| ·气固流态化过程、流化床压降 | 第36-38页 |
| ·气固流态化过程 | 第36页 |
| ·流化床压降 | 第36-38页 |
| ·冷态下的阻力特性研究 | 第38-42页 |
| ·分布板的压降 | 第38页 |
| ·冷态下料层高度对阻力特性的影响 | 第38-40页 |
| ·不同加料方式对冷态下阻力特性的影响 | 第40-42页 |
| ·高温流化床反应器热态下的阻力特性研究 | 第42-46页 |
| ·不同加料方式对流化床反应器阻力特性的影响 | 第42-44页 |
| ·温度对高温流化床反应器阻力特性的影响 | 第44-46页 |
| ·高温流态化直接氮化法制备氮化硅粉体 | 第46-52页 |
| ·实验流程 | 第46-47页 |
| ·产物的定量分析方法 | 第47-49页 |
| ·典型转化曲线 | 第49-50页 |
| ·氮化硅的形貌分析 | 第50-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 第 4 章 高温流化床反应器中气固多相流的初步模拟研究 | 第53-64页 |
| ·计算流体力学(CFD)及其软件 CFX-4 | 第53页 |
| ·气固多相流数学模型 | 第53-54页 |
| ·高温流化床反应器数值模型选择 | 第54-55页 |
| ·高温流化床反应器操作特性的 CFD 模拟 | 第55-63页 |
| ·高温流化床反应器几何建模和计算空间网格划分 | 第55-56页 |
| ·计算过程及误差分析 | 第56-57页 |
| ·模拟结果及分析 | 第57-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 第 5 章 结论与展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
