| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| ·修饰电极 | 第10-11页 |
| ·碳糊电极 | 第10-11页 |
| ·修饰碳糊电极 | 第11页 |
| ·修饰电极的制备 | 第11-12页 |
| ·电化学聚合法 | 第11页 |
| ·电化学沉淀法 | 第11-12页 |
| ·滴涂法 | 第12页 |
| ·掺杂法 | 第12页 |
| ·修饰材料的选择 | 第12-14页 |
| ·过渡金属化合物 | 第12-13页 |
| ·氨基酸 | 第13-14页 |
| ·纳米材料修饰电极 | 第14页 |
| ·纳米材料的应用 | 第14页 |
| ·电化学分析方法 | 第14-15页 |
| ·循环伏安法 | 第15页 |
| ·脉冲伏安法 | 第15页 |
| ·溶出伏安法 | 第15页 |
| ·电化学分析在药物分析中的应用 | 第15-16页 |
| ·本研究工作构想 | 第16-18页 |
| 2 镍氢氧化物膜修饰电极的制备及伏安行为研究 | 第18-30页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·实验部分 | 第18-19页 |
| ·仪器与试剂 | 第18页 |
| ·修饰电极的制备 | 第18-19页 |
| ·样品测定 | 第19页 |
| ·结果与讨论 | 第19-28页 |
| ·镍氢氧化物膜的形成 | 第19-22页 |
| ·电极的表征 | 第22-23页 |
| ·镍氢氧化物膜修饰电极的电化学行为 | 第23-24页 |
| ·实验条件优化 | 第24-27页 |
| ·线性范围与检出限 | 第27-28页 |
| ·稳定性和重现性 | 第28页 |
| ·结论 | 第28-30页 |
| 3 掺铜的聚 L-半胱氨酸修饰电极的制备及对抗坏血酸的测定 | 第30-40页 |
| ·前言 | 第30页 |
| ·实验部分 | 第30-31页 |
| ·仪器与试剂 | 第30页 |
| ·修饰电极的制备 | 第30-31页 |
| ·样品的测定 | 第31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-37页 |
| ·掺杂铜的聚 L-半胱氨酸的聚合过程 | 第31-32页 |
| ·修饰电极的电化学行为 | 第32-33页 |
| ·实验条件优化 | 第33-36页 |
| ·样品测定 | 第36-37页 |
| ·实际样品分析 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 4 白藜芦醇在氯化钴修饰碳糊电极上的电催化氧化及分析应用 | 第40-50页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·仪器与试剂 | 第41页 |
| ·实验过程 | 第41页 |
| ·电极的表征 | 第41-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-49页 |
| ·白藜芦醇在电极上的响应 | 第42-43页 |
| ·氯化钴化学修饰电极的电催化效应 | 第43-44页 |
| ·最佳实验条件的选择 | 第44-47页 |
| ·线性范围和检出限 | 第47-48页 |
| ·氯化钴化学修饰碳糊电极的重现性和稳定性 | 第48-49页 |
| ·共存物质的影响 | 第49页 |
| ·样品分析 | 第49页 |
| ·结论 | 第49-50页 |
| 5 结论 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-62页 |
| 附录 | 第62页 |