| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| 第一节 研究背景 | 第8-10页 |
| 第二节 研究方法 | 第10-16页 |
| 第三节 本论文的研究内容及创新之处 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-22页 |
| 第二章 杂环硅烯插入反应的理论研究 | 第22-45页 |
| 第一节 杂环型稳定硅烯插入HF、H_2O和NH_3反应 | 第22-36页 |
| 1 计算方法 | 第23-24页 |
| 2 杂环硅烯前线轨道分析 | 第24-30页 |
| 3 杂环型硅烯与HX插入反应 | 第30-32页 |
| 4 五种杂环型硅烯反应活性的比较 | 第32-35页 |
| 5 结论 | 第35-36页 |
| 第二节 杂环型稳定硅烯插入HCl、H_2S和PH_3反应 | 第36-42页 |
| 1 反应势能能垒分析 | 第36-39页 |
| 2 键长及自然电荷分析 | 第39-41页 |
| 3 第二,三周期氢化物与杂环硅烯发生插入反应比较 | 第41-42页 |
| 本章小结 | 第42页 |
| 参考文献 | 第42-45页 |
| 第三章 杂环硅烯环加成反应理论研究 | 第45-77页 |
| 第一节 N-杂环硅烯与C_2H_4加成反应研究 | 第45-59页 |
| 1 计算方法 | 第45-46页 |
| 2 反应路径分析 | 第46-53页 |
| 3 反应势能及自然电荷分析 | 第53-54页 |
| 4 热力学及动力学计算 | 第54-59页 |
| 第二节 N-杂环硅烯与CH_2O加成反应研究 | 第59-74页 |
| 1 计算方法 | 第59页 |
| 2 反应路径分析 | 第59-68页 |
| 3 反应势能及自然电荷分析 | 第68-70页 |
| 4 热力学和动力学计算 | 第70-74页 |
| 本章结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 第四章 杂环硅烯低聚物的结构性质研究及激发光谱分析 | 第77-102页 |
| 第一节 聚合物的稳定构型 | 第79-90页 |
| 1 计算方法 | 第79页 |
| 2 由三种不同单体构成聚合物的稳定构型 | 第79-90页 |
| 第二节 聚合物的激发光谱分析 | 第90-100页 |
| 1 以N-杂环硅烯1 为单体的低聚物前线轨道以及激发光谱分析 | 第91-93页 |
| 2 以饱和N-杂环硅烯2 为单体的低聚物前线轨道及光谱分析 | 第93-97页 |
| 3 以N-杂环硅烯3 为单体形成低聚物前线轨道及光谱分析 | 第97-100页 |
| 本章小结 | 第100-101页 |
| 参考文献 | 第101-102页 |
| 第五章 N-杂环硅烯反应的溶剂效应 | 第102-112页 |
| 第一节 N-杂环硅烯1与HF插入反应的溶剂效应 | 第102-104页 |
| 第二节 N-杂环硅烯1环加成反应的溶剂效应 | 第104-108页 |
| 第三节 溶剂对N-杂环硅烯低聚物性质的影响 | 第108-110页 |
| 本章结论 | 第110-111页 |
| 参考文献 | 第111-112页 |
| 论文总结与展望 | 第112-114页 |
| 硕士期间发表文章 | 第114-115页 |
| 致谢 | 第115-116页 |
