| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 插图 | 第11-14页 |
| 表格 | 第14-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-35页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·硬质涂层 | 第15-24页 |
| ·等离子体简介 | 第24-28页 |
| ·等离子技术在薄膜沉积中的应用 | 第28-35页 |
| ·溅射 | 第29-31页 |
| ·等离子增强化学气相沉积(PECVD) | 第31-32页 |
| ·等离子体浸没式离子注入技术(PIII) | 第32-35页 |
| 第2章 类金刚石膜与多层膜 | 第35-57页 |
| ·基本原理和性能 | 第35-42页 |
| ·碳 | 第35-36页 |
| ·无定形碳 | 第36-42页 |
| ·薄膜的合成 | 第42-49页 |
| ·生长机制 | 第42-46页 |
| ·沉积技术 | 第46-49页 |
| ·多层膜 | 第49-54页 |
| ·纳米多层膜的强化机制 | 第50-51页 |
| ·nc-TiAlSiN薄膜的各元素特性 | 第51-54页 |
| ·纳米多层膜超硬刀具的应用 | 第54-57页 |
| 第3章 实验设备与测试方法 | 第57-69页 |
| ·材料表而改性 | 第57-61页 |
| ·金属材料强化原理 | 第57-59页 |
| ·等离子浸没式离了注入(PIII) | 第59-61页 |
| ·实验方法及步骤 | 第61-62页 |
| ·实验目的 | 第61-62页 |
| ·制备步骤 | 第62页 |
| ·等离子体注入沉积(PIII-D)设备 | 第62-63页 |
| ·分析仪器 | 第63-69页 |
| ·SEM | 第63-65页 |
| ·XPS X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopyanalysis) | 第65-66页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第66页 |
| ·X光衍射仪(X-ray Diffraction,XRD) | 第66-67页 |
| ·拉曼(Raman)光谱仪 | 第67-69页 |
| 第4章 等离子浸没式离子注入合成高结合力类金刚石膜 | 第69-79页 |
| ·背景 | 第69-70页 |
| ·实验方法 | 第70-72页 |
| ·结果与讨论 | 第72-77页 |
| ·结论 | 第77-79页 |
| 第5章 阴极电弧技术的改良 | 第79-97页 |
| ·阴极电弧技术 | 第79-82页 |
| ·阴极电弧沉积技术原理 | 第79-80页 |
| ·微粒及微孔隙的形成 | 第80-82页 |
| ·nc-TiAlSiN薄膜的制备 | 第82-84页 |
| ·结果与讨论 | 第84-96页 |
| ·nc-TiAlSiN薄膜微结构形态分析 | 第84-86页 |
| ·nc-TiAlSiN薄膜的化学组态分析 | 第86-89页 |
| ·磁过滤系统对薄膜的影响 | 第89-96页 |
| ·结论 | 第96-97页 |
| 第6章 等离子化学气相沉积与阴极弧沉积碳薄膜之比较 | 第97-105页 |
| ·背景 | 第97页 |
| ·实验过程 | 第97-99页 |
| ·碳薄膜的制备 | 第98页 |
| ·内应力测量 | 第98-99页 |
| ·结果与讨论 | 第99-101页 |
| ·薄膜生长速率 | 第99-100页 |
| ·类金刚石溥膜应力 | 第100-101页 |
| ·拉曼光谱 | 第101-103页 |
| ·结论 | 第103-105页 |
| 第7章 总结 | 第105-107页 |
| ·主要结论 | 第105-106页 |
| ·本课题创新点 | 第106-107页 |
| 附录 辉光放电的物理过程 | 第107-113页 |
| 参考文献 | 第113-123页 |
| 致谢 | 第123-125页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第125页 |
