| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-33页 |
| ·研究背景及选题意义 | 第13-17页 |
| ·应用于 GHz 领域的软磁薄膜研究进展 | 第17-25页 |
| ·Fe (Co，Ni)-X 软磁薄膜 | 第19-21页 |
| ·Fe (Co)-X-(O,N)软磁薄膜 | 第21-24页 |
| ·多层膜和交换耦合多层膜 | 第24-25页 |
| ·薄膜电磁噪声抑制器(EMI)的研究现状 | 第25-31页 |
| ·磁性薄膜电阻特性对电磁噪声抑制性能的影响 | 第26-27页 |
| ·薄膜的三维尺寸对电磁噪声抑制性能的影响 | 第27-29页 |
| ·绝缘层厚度及和传输线的接触方式对电磁噪声抑制性能的影响 | 第29-31页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第31-33页 |
| 第二章 高频磁性薄膜的基本理论 | 第33-49页 |
| ·磁性薄膜高频磁导率理论 | 第33-35页 |
| ·磁各向异性 | 第35-39页 |
| ·高频磁极限关系理论 | 第39-42页 |
| ·磁性材料的磁损耗 | 第42-45页 |
| ·涡流损耗 | 第42-44页 |
| ·磁滞损耗和剩余损耗 | 第44-45页 |
| ·磁性薄膜的磁损耗机理 | 第45-48页 |
| ·本征损耗 | 第46-47页 |
| ·非本征损耗 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第三章 磁性薄膜的制备和表征方法 | 第49-63页 |
| ·薄膜的制备和表征 | 第49页 |
| ·GHz 频段磁性薄膜磁导率测试 | 第49-62页 |
| ·测试原理和步骤 | 第50-54页 |
| ·薄膜磁导率测试中的比例系数 | 第54-56页 |
| ·夹具设计和薄膜测试 | 第56-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 第四章 FeCoHfO 薄膜的制备、结构及性能调控 | 第63-93页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·反应溅射 | 第63-65页 |
| ·FeCoHfO 薄膜样品的制备 | 第65-66页 |
| ·FeCoHfO 薄膜的性能调控 | 第66-91页 |
| ·氧分压对 FeCoHfO 薄膜性能的影响 | 第66-77页 |
| ·退火对 FeCoHfO 薄膜性能的影响 | 第77-83页 |
| ·溅射功率和压强对 FeCoHfO 薄膜性能的影响 | 第83-91页 |
| ·小结 | 第91-93页 |
| 第五章 NiFe-NiZnFe2O4和 FeCo-SiO_2薄膜的高频性能研究 | 第93-116页 |
| ·引言 | 第93-94页 |
| ·Ni_(80)Fe_(20)-Ni0.5Zn0.5Fe_2O_4薄膜的高频特性 | 第94-99页 |
| ·FeCo-SiO_2薄膜的高频性能研究 | 第99-114页 |
| ·样品制备 | 第99-100页 |
| ·SiO_2含量对薄膜性能的影响 | 第100-104页 |
| ·膜厚对 FeCo-SiO_2薄膜性能的影响 | 第104-109页 |
| ·Cu 缓冲层对 FeCo-SiO_2薄膜性能的影响 | 第109-114页 |
| ·小结 | 第114-116页 |
| 第六章 薄膜电磁噪声抑制器 | 第116-127页 |
| ·引言 | 第116页 |
| ·薄膜电磁噪声抑制机理 | 第116-118页 |
| ·测试平台和传输线设计 | 第118-122页 |
| ·测试平台 | 第118-119页 |
| ·共面波导设计 | 第119-122页 |
| ·薄膜厚度对传输特性的影响 | 第122-123页 |
| ·绝缘层厚度对传输特性的影响 | 第123-124页 |
| ·不同共振频率的薄膜对传输特性的影响 | 第124-125页 |
| ·小结 | 第125-127页 |
| 第七章 结论 | 第127-132页 |
| ·主要结论及创新点 | 第127-131页 |
| ·有待深入研究的问题 | 第131-132页 |
| 致谢 | 第132-133页 |
| 参考文献 | 第133-146页 |
| 攻博期间取得的研究成果 | 第146-147页 |
