| 内容提要 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第8-9页 |
| ·金刚石的性质 | 第9-12页 |
| ·CVD 沉积金刚石的制备技术简介 | 第12-15页 |
| ·CVD 金刚石生长机制 | 第15-18页 |
| ·论文选题及主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 实验设备与表征技术 | 第19-26页 |
| ·MPCVD 装置 | 第19-23页 |
| ·金刚石的表征技术 | 第23-26页 |
| 第三章 N_2对低甲烷含量下金刚石膜生长的影响 | 第26-34页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·N_2 对低甲烷含量下金刚石膜生长的影响 | 第26-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 第四章 N_2对高甲烷含量下纳米金刚石膜生长的影响 | 第34-40页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·N_2 对高甲烷含量下纳米金刚石膜生长的影响 | 第34-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 第五章 N_2对高成核密度下金刚石膜生长的影响 | 第40-48页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·N_2 对高成核密度下金刚石膜生长的影响 | 第40-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第六章 全文总结 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-57页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 摘要 | 第59-61页 |
| Abstract | 第61-62页 |