| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-28页 |
| ·背景介绍 | 第10-11页 |
| ·有机分子主要成膜技术及影响因素 | 第11-16页 |
| ·LB 膜发展的历史 | 第12页 |
| ·LB 膜的特点 | 第12-13页 |
| ·单分子膜制备过程 | 第13页 |
| ·成膜材料 | 第13页 |
| ·铺展溶剂满足的条件 | 第13页 |
| ·单分子膜制备的实验环境[46] | 第13-15页 |
| ·气液界面构筑纳米结构的影响因素 | 第15-16页 |
| ·LB 膜表征技术 | 第16-18页 |
| ·LB 技术构筑偶氮类颜料纳米结构的应用进展 | 第18-21页 |
| ·目前存在的主要问题 | 第21-22页 |
| ·论文研究的意义、思路及主要内容 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-28页 |
| 第二章 含酯基和氨基偶氮颜料的微区结构和光学性质研究 | 第28-38页 |
| ·背景 | 第28-29页 |
| ·DFM 工作原理 | 第28页 |
| ·偶氮化合物简介 | 第28-29页 |
| ·实验部分 | 第29-30页 |
| ·实验试剂 | 第29页 |
| ·实验仪器 | 第29-30页 |
| ·实验方法 | 第30页 |
| ·实验过程 | 第30页 |
| ·实验结果与讨论 | 第30-35页 |
| ·表面压-面积曲线 | 第30-31页 |
| ·偶氮颜料及其混合物的形貌 | 第31-33页 |
| ·偶氮颜料及其混合物的光学性质 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-38页 |
| 第三章 含甲氧基和硝基偶氮颜料的微区结构的研究 | 第38-56页 |
| ·背景 | 第38-39页 |
| ·实验部分 | 第39-40页 |
| ·实验试剂 | 第39页 |
| ·实验仪器 | 第39-40页 |
| ·实验方法 | 第40页 |
| ·实验过程 | 第40页 |
| ·实验结果与讨论 | 第40-51页 |
| ·表面压-面积曲线 | 第40-41页 |
| ·AS-RL 单体单层 LB 膜和自组装膜形貌像 | 第41-42页 |
| ·AS-BS 单体不同表面压下的单层 LB 膜形貌像 | 第42-44页 |
| ·AS-BS 形貌像表面分析示意图特例分析 | 第44-45页 |
| ·AS-BS/ODA 复合 LB 膜形貌像 | 第45-46页 |
| ·AS-BS/AA 复合 LB 膜形貌像 | 第46-48页 |
| ·AS-BS 在不同基片上的 LB 形貌像 | 第48-49页 |
| ·AS-BS:AA = 1:1 在不同基片上的 LB 形貌像 | 第49-50页 |
| ·AS-BS:ODA = 1:1 在不同基片上的 LB 形貌像 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 第四章 含硝基偶氮颜料 LB 膜的光学和电学性质研究 | 第56-70页 |
| ·背景 | 第56页 |
| ·实验部分 | 第56-58页 |
| ·实验试剂 | 第56-57页 |
| ·实验仪器 | 第57页 |
| ·实验方法 | 第57-58页 |
| ·实验结果与讨论 | 第58-66页 |
| ·AS-BS 溶液及 LB 膜的吸收光谱 | 第59页 |
| ·AS-BS 溶液及 LB 膜的荧光光谱 | 第59-60页 |
| ·AS-BS 及其混合物在硅基底的 LB 膜形貌像 | 第60-61页 |
| ·AS-BS 在硅基底的 I-V 曲线 | 第61-62页 |
| ·AS-BS：AA = 1：1 在硅基底的 I-V 曲线 | 第62-63页 |
| ·AS-BS：ODA = 1：1 在硅基底的 I-V 曲线 | 第63页 |
| ·硅片的 I-V 曲线 | 第63页 |
| ·AS-BS 及其混合物在 ITO 基底的 I-V 曲线 | 第63-64页 |
| ·AS-BS 的电势图像及其对应的形貌像 | 第64-65页 |
| ·AS-BS 的循环伏安曲线 | 第65-66页 |
| ·光电流产生的物理机制 | 第66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 总结与展望 | 第70-71页 |
| 攻读学位期间发表和完成的论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
