| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-27页 |
| ·课题背景 | 第12页 |
| ·研究的目的和意义 | 第12-17页 |
| ·国内外研究现状及分析 | 第17-25页 |
| ·概述 | 第17-18页 |
| ·高品质氧化钒薄膜制备技术的探索 | 第18-20页 |
| ·改变氧化钒相变温度的研究进展情况 | 第20-21页 |
| ·氧化钒薄膜相变机理研究进展 | 第21页 |
| ·氧化钒薄膜的应用研究 | 第21-24页 |
| ·激光防护的发展趋势 | 第24-25页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 氧化钒相变机理分析与理论计算 | 第27-47页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·氧化钒薄膜相变机理分析 | 第27-30页 |
| ·氧化钒薄膜相变理论计算 | 第30-44页 |
| ·能带结构与态密度计算 | 第31-38页 |
| ·钒氧化合物晶体的光学性质计算 | 第38-44页 |
| ·掺杂改变相变温度的机理研究 | 第44-46页 |
| ·掺杂改变相变温度的机理 | 第44页 |
| ·掺杂改变相变温度的理论计算 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第3章 氧化钒薄膜制备及退火研究 | 第47-72页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·镀膜机设计 | 第47-50页 |
| ·氧化钒薄膜厚度理论计算 | 第50-54页 |
| ·氧化钒薄膜溅射产额和溅射速率的计算 | 第54-59页 |
| ·磁控溅射的基本概念 | 第55页 |
| ·溅射模型的建立及公式推导 | 第55-59页 |
| ·锗基片上氧化钒薄膜制备研究 | 第59-61页 |
| ·锗基片上氧化钒薄膜退火研究 | 第61-64页 |
| ·硒化锌基片上氧化钒薄膜制备研究 | 第64-67页 |
| ·氧化钒薄膜制备工艺探索 | 第67-68页 |
| ·硒化锌基片上氧化钒薄膜退火研究 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第4章 氧化钒薄膜相变光学性能实验研究 | 第72-86页 |
| ·引言 | 第72页 |
| ·分光光度计对氧化钒相变光学特性测试 | 第72-77页 |
| ·Nicolet 8700 型红外分光光度计简介 | 第72-73页 |
| ·氧化钒薄膜相变性能测试 | 第73-77页 |
| ·激光作用时薄膜相变性能测试 | 第77-81页 |
| ·锗基片上氧化钒薄膜光学特性测试实验装置介绍 | 第77页 |
| ·锗基片上氧化钒薄膜相变前后光学性质变化测试 | 第77-79页 |
| ·硒化锌基片上氧化钒薄膜光学特性测试实验装置介绍 | 第79-80页 |
| ·硒化锌基片上氧化钒薄膜相变前后光学性质变化测试 | 第80-81页 |
| ·激光对氧化钒薄膜相变贡献测试 | 第81-82页 |
| ·实验装置介绍 | 第81页 |
| ·激光对氧化钒薄膜相变贡献测试结果与分析 | 第81-82页 |
| ·二氧化钒激光防护性能的影响因素分析 | 第82-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第5章 组分对氧化钒薄膜相变温度的影响 | 第86-109页 |
| ·引言 | 第86页 |
| ·钒氧化物的混合体系计算 | 第86-103页 |
| ·P1-VOx透光率的计算 | 第88-91页 |
| ·P2-VOx透光率的计算 | 第91-95页 |
| ·P3-VOx透光率的计算 | 第95-98页 |
| ·P4-VOx透光率的计算 | 第98-103页 |
| ·退火对氧化钒含量的影响 | 第103-104页 |
| ·组分对氧化钒薄膜相变温度影响现象 | 第104-105页 |
| ·采用氧化钒组分实现相变温度改变的机理及可行性分析 | 第105-108页 |
| ·本章小结 | 第108-109页 |
| 结论 | 第109-111页 |
| 参考文献 | 第111-121页 |
| 附录 | 第121-131页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第131-133页 |
| 致谢 | 第133-134页 |
| 个人简历 | 第134页 |