化学修饰电极及其在环境分析中的应用研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
缩写表 | 第6-10页 |
引言 | 第10-11页 |
1 绪论 | 第11-21页 |
·化学修饰电极 | 第11-17页 |
·化学修饰电极研究进展 | 第11-12页 |
·化学修饰电极的制备与分类 | 第12-13页 |
·化学修饰电极的应用研究 | 第13-17页 |
·氨基酸修饰电极的研究 | 第17-20页 |
·氨基酸修饰电极的制备 | 第17-18页 |
·氨基酸修饰电极的应用 | 第18-20页 |
·本论文的主要工作 | 第20-21页 |
2 聚对甲基苯磺酸化学修饰电极的制备及其应用研究 | 第21-30页 |
·前言 | 第21页 |
·实验部分 | 第21-22页 |
·主要仪器 | 第21-22页 |
·主要试剂 | 第22页 |
·聚对甲基苯磺酸膜修饰电极的制备 | 第22页 |
·实验方法步骤 | 第22页 |
·结果与讨论 | 第22-29页 |
·聚合条件的选择 | 第22-23页 |
·DA在聚对甲基苯磺酸修饰电极上的电化学行为 | 第23-25页 |
·AA在聚对甲基苯磺酸修饰电极上的电化学行为 | 第25-26页 |
·同时测定DA和AA | 第26-28页 |
·分析应用 | 第28-29页 |
·小结 | 第29-30页 |
3 聚天冬氨酸化学修饰电极的制备及其应用研究 | 第30-39页 |
·前言 | 第30页 |
·实验部分 | 第30-31页 |
·主要仪器 | 第30页 |
·主要试剂 | 第30-31页 |
·聚天冬氨酸膜修饰电极的制备 | 第31页 |
·实验方法步骤 | 第31页 |
·结果与讨论 | 第31-38页 |
·聚合条件的选择 | 第31-32页 |
·HQ和CC在聚天冬氨酸修饰电极上的电化学行为 | 第32-34页 |
·扫速对峰电流的影响 | 第34-35页 |
·底液pH对峰电流的影响 | 第35页 |
·同时测定HQ和CC | 第35-37页 |
·分析应用 | 第37-38页 |
·小结 | 第38-39页 |
4 聚谷氨酸化学修饰电极的制备及其应用研究 | 第39-47页 |
·前言 | 第39页 |
·实验部分 | 第39-40页 |
·主要试剂 | 第39页 |
·主要仪器 | 第39页 |
·修饰电极的制备及应用研究方法 | 第39-40页 |
·实验方法步骤 | 第40页 |
·结果与讨论 | 第40-46页 |
·聚合条件的选择 | 第40页 |
·HQ和CC在聚谷氨酸修饰电极上的电化学行为 | 第40-42页 |
·扫速对峰电流的影响 | 第42-43页 |
·底液pH对峰电流的影响 | 第43-44页 |
·同时测定HQ和CC | 第44-45页 |
·分析应用 | 第45-46页 |
·小结 | 第46-47页 |
5 聚苯丙氨酸化学修饰电极的制备及其应用研究 | 第47-56页 |
·前言 | 第47页 |
·实验部分 | 第47-48页 |
·主要试剂 | 第47页 |
·主要仪器 | 第47-48页 |
·修饰电极的制备 | 第48页 |
·实验方法步骤 | 第48页 |
·结果与讨论 | 第48-55页 |
·聚合条件的选择 | 第48-49页 |
·HQ和CC在聚苯丙氨酸修饰电极上的电化学行为 | 第49-50页 |
·扫速对峰电流的影响 | 第50-52页 |
·底液pH对峰电流的影响 | 第52页 |
·同时测定HQ和CC | 第52-54页 |
·分析应用 | 第54-55页 |
·小结 | 第55-56页 |
结论 | 第56-59页 |
参考文献 | 第59-69页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第69-70页 |
致谢 | 第70-71页 |