| 独创性说明 | 第1-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| ·多层膜的研究背景 | 第9页 |
| ·多层膜的构成及特性 | 第9-10页 |
| ·多层膜力学性能的研究进展与现状 | 第10-11页 |
| ·多层膜硬度增强机制的理论研究 | 第11-13页 |
| ·Hall-Petch效应 | 第11-12页 |
| ·协调应变效应 | 第12页 |
| ·复合强化理论 | 第12-13页 |
| ·多层膜的研究概况和发展方向 | 第13-14页 |
| ·本论文工作的主要目的和研究重点 | 第14-15页 |
| 2 TiN/ZrN纳米多层膜的制备和表征方法 | 第15-27页 |
| ·多层膜的制备方法 | 第15-18页 |
| ·反应磁控溅射基本原理 | 第15-16页 |
| ·薄膜沉积系统 | 第16-17页 |
| ·薄膜基片处理方法 | 第17-18页 |
| ·多层膜的分析方法 | 第18-27页 |
| ·多层膜表面形貌的表征 | 第18-19页 |
| ·多层膜微观结构的表征 | 第19-23页 |
| ·多层膜成分的表征 | 第23页 |
| ·多层膜力学性能的表征 | 第23-27页 |
| 3 大调制比、不同调制周期的TiN/ZrN多层膜的生长行为和力学性能 | 第27-49页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·单层膜的表面形貌和晶体结构 | 第27-35页 |
| ·单层膜的制备 | 第27-28页 |
| ·单层膜的表面形貌 | 第28-34页 |
| ·单层膜的晶体结构 | 第34-35页 |
| ·TiN/ZrN纳米多层膜的设计 | 第35-36页 |
| ·TiN/ZrN纳米多层膜的调制结构 | 第36-41页 |
| ·多层膜的调制周期 | 第36-40页 |
| ·多层膜的调制比 | 第40页 |
| ·多层膜的生长速率 | 第40-41页 |
| ·TiN/ZrN纳米多层膜的结构 | 第41-43页 |
| ·多层膜的晶体结构 | 第41-42页 |
| ·多层膜的界面状态 | 第42-43页 |
| ·TiN/ZrN纳米多层膜的硬度 | 第43-44页 |
| ·TiN/ZrN纳米多层膜的硬度强化机制 | 第44-48页 |
| ·Hall-Petch效应 | 第44页 |
| ·协调应变效应 | 第44-45页 |
| ·Koehler的复合强化理论 | 第45-47页 |
| ·择优取向对硬度的影响 | 第47-48页 |
| ·本章结论 | 第48-49页 |
| 4 小调制比、不同调制周期的TiN/ZrN多层膜的生长行为和力学性能 | 第49-60页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·单层膜的晶体结构 | 第49-51页 |
| ·单层膜的制备 | 第49-50页 |
| ·单层膜的晶体结构 | 第50-51页 |
| ·TiN/ZrN纳米多层膜的设计 | 第51-52页 |
| ·TiN/ZrN纳米多层膜的调制结构 | 第52-55页 |
| ·多层膜的调制结构 | 第52-54页 |
| ·多层膜的调制比 | 第54-55页 |
| ·TiN/ZrN纳米多层膜的表面形貌 | 第55-57页 |
| ·TiN/ZrN纳米多层膜的结构 | 第57-58页 |
| ·TiN/ZrN纳米多层膜的硬度 | 第58-59页 |
| ·文章结论 | 第59-60页 |
| 5 TiN/ZrN多层膜的稳定性 | 第60-71页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·实验方法 | 第60页 |
| ·退火后多层膜的结构表征 | 第60-69页 |
| ·多层膜的晶体结构 | 第60-61页 |
| ·多层膜的氧化过程 | 第61-65页 |
| ·多层膜的界面状态 | 第65-69页 |
| ·退火后多层膜的力学性能 | 第69-70页 |
| ·本章结论 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第80页 |