增强型脉冲离子源的研制
| 1 绪论 | 第1-16页 |
| ·DLC 薄膜发展现状、性能及应用 | 第8-12页 |
| ·类金刚石薄膜简介 | 第8页 |
| ·类金刚石薄膜的发展 | 第8-9页 |
| ·类金刚石薄膜的性能 | 第9页 |
| ·类金刚石薄膜的应用 | 第9-10页 |
| ·类金刚石膜的制备方法 | 第10-12页 |
| ·电弧离子镀 | 第12-13页 |
| ·电弧离子镀简述 | 第12页 |
| ·脉冲真空电弧离子镀的发展和现状 | 第12-13页 |
| ·磁过滤电弧沉积 | 第13页 |
| ·研究意义 | 第13-14页 |
| ·研究内容 | 第14页 |
| ·课题来源及名称 | 第14页 |
| ·研究的主要内容简介 | 第14页 |
| ·本文内容安排 | 第14-16页 |
| 2 脉冲离子源的结构与控制装置 | 第16-20页 |
| ·脉冲离子源的结构 | 第16-17页 |
| ·脉冲离子源控制系统组成 | 第17-20页 |
| 3 增强型脉冲离子源的设计与调试 | 第20-30页 |
| ·增强型脉冲离子源 | 第20页 |
| ·磁过滤装置的设计 | 第20-22页 |
| ·磁场的计算 | 第21-22页 |
| ·电流密度的选择 | 第22页 |
| ·线圈的功率消耗和优化 | 第22-24页 |
| ·均匀电流密度线圈的功耗 | 第22-24页 |
| ·线圈参数 | 第24页 |
| ·线圈磁场的有限元软件分析 | 第24页 |
| ·磁过滤装置电源设计 | 第24-26页 |
| ·磁过滤装置电源原理图设计 | 第24-25页 |
| ·电源机箱设计 | 第25页 |
| ·磁过滤装置三维模拟 | 第25-26页 |
| ·增强型脉冲离子源的安装和测试 | 第26-30页 |
| ·过滤装置磁感应强度随时间的变化 | 第26-27页 |
| ·过滤装置磁感应强度的测量 | 第27页 |
| ·磁过滤装置磁场位形分布 | 第27-28页 |
| ·离子源均匀性研究 | 第28-30页 |
| 4 DLC 薄膜拉曼光谱分析与光学性能测试 | 第30-38页 |
| ·实验设备及方法 | 第30页 |
| ·基底的处理 | 第30页 |
| ·实验参数 | 第30页 |
| ·类金刚石薄膜拉曼光谱分析 | 第30-32页 |
| ·薄膜光学性能测试 | 第32-35页 |
| ·椭偏仪的测试原理 | 第32-33页 |
| ·光学能隙的原理 | 第33-34页 |
| ·光学透过比的测试原理 | 第34-35页 |
| ·光学性能的测试结果及分析 | 第35-38页 |
| ·不同导磁环DLC 薄膜光学性能 | 第35-36页 |
| ·过滤线圈电流不同时DLC 薄膜的光学性能 | 第36-38页 |
| 5 DLC 薄膜表面形貌分析及细化颗粒的机理 | 第38-51页 |
| ·类金刚石薄膜的表面形貌分析 | 第38-42页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM）分析 | 第38-39页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第39-42页 |
| ·过滤电弧细化薄膜颗粒机理的分析 | 第42-49页 |
| ·阴极靶电弧发射过程分析 | 第43-44页 |
| ·过滤电弧细化薄膜颗粒的理论分析 | 第44-49页 |
| ·过滤电弧减小颗粒机理 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 6 DLC 薄膜机械性能分析 | 第51-56页 |
| ·DLC 薄膜的摩擦系数测试及分析 | 第51-52页 |
| ·实验原理 | 第51页 |
| ·实验结果及分析 | 第51-52页 |
| ·DLC 薄膜硬度测试及分析 | 第52-54页 |
| ·DLC 薄膜附着力测试及分析 | 第54页 |
| ·DLC 薄膜电阻测试及分析 | 第54-55页 |
| ·DLC 薄膜时间稳定性 | 第55-56页 |
| 7 结论 | 第56-58页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| ·展望 | 第57-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 学位论文知识产权声明 | 第60-61页 |
| 学位论文独创性声明 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
